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原文传递双基准电容外观图像检测方法

专利名称：	双基准电容外观图像检测方法
摘要：	本发明公开了一种双基准电容外观图像检测方法，包括以下步骤：第一步：注册电容各待测表示面的深浓度基准图像和浅浓度基准图像，设定检测瑕疵量上限值；第二步：待测样品放置在输送装置上，检测装置对电容表示面进行捕获待检图像；第三步：提取待检图像中比深浓度基准图像更深的部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第四步：提取所述待检图像中比浅浓度基准图像更浅的部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第五步：测出样品最大瑕疵量检测值，综合判定结果；第六步：根据判定结果，已检样品通过筛选装置分拣存放。采用样品图像与具有浓度差异的两个基准图像分别对比，明确分工，在不影响判别不良品的基础上，消除浓度差异带来的误判，有效提高检测准确率。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	松下电子部品（江门）有限公司
发明人：	刘英杰
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201810255942.2
公开号：	CN108459023A
代理机构：	广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205
代理人：	廖华均
分类号：	G01N21/892(2006.01)I;B07C5/342(2006.01)I;G;B;G01;B07;G01N;B07C;G01N21;B07C5;G01N21/892;B07C5/342
申请人地址：	529000 广东省江门市新会区会城大道18号
主权项：	1.双基准电容外观图像检测方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步：注册电容外壳待测表示面的基准图像，每个表示面分别注册深浓度基准图像和浅浓度基准图像，设定检测瑕疵量上限值；第二步：将待测样品放置在输送装置上，启动检测装置对电容表示面进行捕获待检图像；第三步：提取所述待检图像中比深浓度基准图像的颜色更深的部分，并将提取部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第四步：提取所述待检图像中比浅浓度基准图像的颜色更浅的部分，并将提取部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第五步：得出样品最大瑕疵量检测值，与瑕疵量上限值对比，并给出综合判定结果；第六步：根据判定结果，已检样品通过筛选装置分拣存放。
所属类别：	发明专利