详情

原文传递一种真空吸附结构

专利名称：	一种真空吸附结构
摘要：	本发明实施例提供一种真空吸附结构，涉及吸盘技术领域，能够解决现有技术中真空吸附结构的吸附可靠性较差的问题。所述真空吸附结构包括：吸盘，吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于第一环形凸起外围的第二环形凸起，第一环形凸起的底部和第二环形凸起的底部位于同一平面；吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔，第一真空孔位于第一环形凸起内侧，第二真空孔位于第一环形凸起与第二环形凸起之间；固定单元，用于固定吸盘；固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔，真空气流可通过通孔到达第一真空孔和第二真空孔处。本发明用于真空吸附。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
发明人：	卫春生;马亚光;王洋;何文兵;王培军
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201810164417.X
公开号：	CN108358034A
代理机构：	北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人：	申健
分类号：	B66C1/02(2006.01)I;B;B66;B66C;B66C1;B66C1/02
申请人地址：	100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
主权项：	1.一种真空吸附结构，其特征在于，包括：吸盘，所述吸盘的底部设置有第一环形凸起和位于所述第一环形凸起外围的第二环形凸起，所述第一环形凸起的底部和所述第二环形凸起的底部位于同一平面；所述吸盘上设置有第一真空孔和第二真空孔，所述第一真空孔位于所述第一环形凸起内侧，所述第二真空孔位于所述第一环形凸起与所述第二环形凸起之间；固定单元，用于固定所述吸盘；所述固定单元上设置有用于真空气流通过的通孔，所述真空气流可通过所述通孔到达所述第一真空孔和所述第二真空孔处。
所属类别：	发明专利