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用于分析测量区域的方法和微型光谱仪
| 专利名称： | 用于分析测量区域的方法和微型光谱仪 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于在考虑到光谱评估至少一个单个测量的情况下分析测量区域的方法，其包括如下步骤：•以电磁射束辐射测量区域的物体，•光谱测定地测量来自测量区域的射束，其中为了分析测量区域执行至少两个单个测量，•针对第一单个测量利用第一射束分布以电磁射束辐射物体并且通过光谱测定地测量来提供第一光谱测定的探测器信号，•针对第二单个测量利用与第一射束分布不同的第二射束分布以电磁射束辐射物体并且通过光谱测定地测量来提供第二光谱测定的探测器信号，•通过比较第一光谱测定的探测器信号和第二光谱测定的探测器信号获知比较值，比较值是针对存在直接反射的指示器，并且•为了光谱评估，根据比较值选出探测器信号，用以分析测量区域。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 德国;DE |
| 申请人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 发明人： | B.施泰因;C.舍林;F.米歇尔;M.赫默斯多夫;M.胡斯尼克;R.诺尔特迈尔 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810023301.4 |
| 公开号： | CN108303387A |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
| 代理人： | 宣力伟;邓雪萌 |
| 分类号： | G01N21/31(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/31;G01N21/01 |
| 申请人地址： | 德国斯图加特 |
| 主权项： | 1.用于在考虑到光谱评估（14）至少一个单个测量（11'、11''、11'''、11''''）的情况下分析测量区域（5）的方法（10），其中所述单个测量（11'、11''、11'''、11''''）具有如下步骤：•以电磁射束辐射（110'、110''）测量区域（5）的物体（5''），•光谱测定地测量（111）来自测量区域的射束（501），其特征在于，为了分析测量区域（5）执行至少两个单个测量（11'、11''、11'''、11''''），其中•针对第一单个测量（11'）利用第一射束分布以电磁射束辐射（110'）物体（5''）并且通过光谱测定地测量（111）来自测量区域的第一射束来提供第一光谱测定的探测器信号（111'），•针对第二单个测量（11''）利用与第一射束分布不同的第二射束分布以电磁射束辐射（110''）物体（5''）并且通过光谱测定地测量（111）来自测量区域的第二射束来提供第二光谱测定的探测器信号（111''），•通过比较（12）第一光谱测定的探测器信号（111'）和第二光谱测定的探测器信号（111''）获知比较值（12'、121'），其中所述比较值（12'、121'）是针对存在直接反射的指示器，并且•为了光谱评估（14），根据所述比较值（12'、121'）选出（13）光谱测定的探测器信号（111'、111''），用以分析测量区域（5）。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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