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原文传递 基于双光束瞬态开孔形成小孔探针的超分辨光学成像方法
专利名称: 基于双光束瞬态开孔形成小孔探针的超分辨光学成像方法
摘要: 一种基于双光束瞬态开孔形成小孔探针的超分辨光学成像方法,在扫描显微镜成像系统当中,将镀相变材料薄膜的盖玻片紧靠在样品表面,然后将两束光同时聚焦穿过盖玻片照射到样品上,一束是高功率脉冲激发光,一束是低功率探测光。利用相变材料的非线性特性,当激发光作用在相变材料上,材料具有非线性饱和吸收特性时,则在材料中形成瞬态小孔,探测光通过以后有效半径减小,形成小于极限以下的小孔探针;材料具有非线性反饱和特性时,则利用未激发作用下的弱光信号去与激发作用下的信号进行差分,也能形成小于极限以下瞬态小孔探针,利用形成的小孔探针去逐点扫描成像,实现超分辨远场光学成像。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 上海;31
申请人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人: 丁晨良;魏劲松
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810079044.6
公开号: CN108318448A
代理机构: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317
代理人: 张宁展
分类号: G01N21/39(2006.01)I;G01N21/17(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/39;G01N21/17
申请人地址: 201800 上海市嘉定区清河路390号
主权项: 1.一种基于双光束瞬态开孔形成小孔探针的超分辨光学成像方法,其特征在于该方法包括以下步骤:a)在盖玻片上用磁控溅射的方法镀上一层相变薄膜材料;b)将所述的盖玻片紧贴于待测样品表面,且镀有相变薄膜材料的一面紧贴着待测样品表面;c)将盖玻片和待测样品一起放置在成像样品移动台上;d)利用一束光功率密度小于2×109W/m2的探测光和一束同波长光功率密度大于2×109W/m2,脉冲频率大于1Mhz的激发光同时穿过盖玻片,并照射在待测样品的同一区域;e)将经盖玻片和待测样品的透射光通过滤波片,滤掉功率密度大于2×109W/m2的激发光信号,只让功率密度小于2×109W/m2的探测光信号通过;f)采用点扫描的扫描显微镜系统,将两束光同时聚焦照射到待测样品上,逐点对待测样品进行扫描:对于Sb和Sb70Te30相变薄膜材料,在405nm波长激光作用下它们具有非线性饱和吸收特性,则在激发光作用时收集探测光透过率信号1作为成像信号;对于GeTe、Ge2Sb2Te5、InSb和AgInSbTe相变薄膜材料,在405nm波长激光作用下它们具有非线性反饱和吸收特性,则在激发光作用时收集探测光透过率信号2和在激发光未作用时收集探测光透过率信号3,然后将探测光透过率信号3减去探测光透过率信号2作为成像信号;g)利用探测光检测装置收集扫描区域所有成像信号,形成图像。
所属类别: 发明专利
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