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原文传递 用于气体光电探测器的阻性光阴极、制备方法及测试方法
专利名称: 用于气体光电探测器的阻性光阴极、制备方法及测试方法
摘要: 本公开提供一种用于气体光电探测器的阻性光阴极、制备方法及测试方法,该用于气体光电探测器的阻性光阴极包括:基底层以及DLC薄膜,该DLC薄膜形成于基底层的上表面。本公开实施例提供的用于气体光电探测器的阻性光阴极、制备方法及测试方法使用DLC薄膜来制备阻性光阴极材料,采用磁控溅射方法在基底层上沉积DLC薄膜,使得DLC一方面能够作为气体探测器的透射式光阴极材料,另一方面也能够适用于气体探测器的阻性电极材料应用,并且通过优化改进DLC制备的工艺参数,使得在基底层上能够得到量子效率高,电阻率合适,厚度均匀性好,结合力强的DLC薄膜。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 安徽;34
申请人: 中国科学技术大学
发明人: 周意;吕游;尚伦霖;张广安;鲁志斌;刘建北;张志永;丰建鑫
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810851558.9
公开号: CN108982476A
代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人: 李坤
分类号: G01N21/69(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;G;H;C;G01;H01;C23;G01N;H01L;C23C;G01N21;H01L31;C23C14;G01N21/69;H01L31/0224;C23C14/06;C23C14/35
申请人地址: 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号
主权项: 1.一种用于气体光电探测器的阻性光阴极,包括:基底层;以及DLC薄膜,形成于所述基底层的上表面。
所属类别: 发明专利
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