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一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备及应用方法
| 专利名称： | 一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备及应用方法 |
| 摘要： | 本发明公布了一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备及应用方法，包括以下步骤：首先在抛光电极上修饰氧化石墨烯得到氧化石墨烯修饰电极，然后将氧化石墨烯修饰电极在氯化钠溶液中进行电还原得到还原氧化石墨烯修饰电极。接着，在还原氧化石墨烯修饰电极表面原位电聚合分子印迹聚合物，形成一层分子印迹膜。分子印迹膜以邻苯二胺和间二苯酚为功能单体，噻苯咪唑为模板分子。去除噻苯咪唑模板分子后，得到基于还原氧化石墨烯的噻苯咪唑分子印迹电化学传感器。将该传感器与差分脉冲伏安法相结合，可对痕量噻苯咪唑进行检测。灵敏度高、选择性好，在食品质量安全检测和环境监测领域具有应用价值。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 广东;44 |
| 申请人： | 广东工业大学 |
| 发明人： | 马晓国;李景;张梦圆 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810945250.0 |
| 公开号： | CN109001280A |
| 分类号： | G01N27/327(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N27;G01N27/327 |
| 申请人地址： | 510090 广东省广州市越秀区东风东路729号 |
| 主权项： | 1.一种噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)在抛光电极上修饰氧化石墨烯得到氧化石墨烯修饰电极；(2)将氧化石墨烯修饰电极在氯化钠溶液中进行电还原得到还原氧化石墨烯修饰电极；(3)在还原氧化石墨烯修饰电极表面原位电聚合分子印迹聚合物，形成一层分子印迹膜。分子印迹膜以邻苯二胺和间二苯酚为功能单体，噻苯咪唑为模板分子；(4)去除噻苯咪唑模板分子，得到基于还原氧化石墨烯的噻苯咪唑分子印迹电化学传感器。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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