专利名称: |
一种同步辐射的衍射增强成像方法 |
摘要: |
本发明公开了一种同步辐射的衍射增强成像方法。本方法为:选取两块斜切晶体,一块作为单色器、一块作为分析器;将X射线掠入射到单色器表面上产生的衍射光束入射到待测样品;然后将该单色器绕晶格面法线方向旋转,根据测量光斑尺寸推测斜切因子b值,当其与理论值相当时固定该单色器的旋转角度φ;将X射线透过样品后的光线入射到分析器表面上;然后将分析器绕其晶格面法线旋转角度φ;以衍射面的法线为轴旋转分析器,利用光强探测器检测出射光强度随着角度的变化曲线,记录下该分析器在该变化曲线的峰位、半峰位和峰底对应的角度位置;将该分析器分别调整到步骤4)记录的角度位置上,利用成像探测器分别接收该分析器出射的信号。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
中国科学院高能物理研究所 |
发明人: |
刁千顺;洪振;张小威;袁清习;盛伟繁;胡凌飞;石泓;郑黎荣;姜永诚;刘旭 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810425620.8 |
公开号: |
CN108645879A |
代理机构: |
北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 |
代理人: |
司立彬 |
分类号: |
G01N23/20(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/20 |
申请人地址: |
100049 北京市石景山区玉泉路19号(乙) |
主权项: |
1.一种同步辐射的衍射增强成像方法,其步骤包括:1)选取两块斜切晶体,其中一块作为单色器、一块作为分析器;将待测样品放置在该单色器与该分析器之间;2)将X射线掠入射到该单色器表面上产生的一束衍射单色准直化光束入射到待测样品;然后将该单色器绕晶格面法线方向旋转,利用光斑探测器测量当前旋转角度时入射到待测样品的衍射单色准直化光束的光斑尺寸,根据光斑尺寸推算当前旋转角度该单色器的斜切因子b值,当其与对应角度时该单色器的斜切因子理论值相当时固定该单色器的旋转角度φ;3)将该光斑探测器移出光路;将X射线透过该待测样品后产生带有该待测样品的结构信息的光线入射到该分析器表面上产生布拉格衍射;然后将所述分析器绕其晶格面法线方向旋转,使得所述分析器的晶格面和晶面法线方向组成的平面与入射光截面的夹角与步骤2)确定的旋转角度φ相当或相同;4)以该分析器衍射面的法线方向为轴旋转该分析器,利用光强探测器检测出射光强度随着角度的变化曲线,记录下该分析器在该变化曲线的峰位、半峰位和峰底对应的角度位置;5)将该光强探测器移出光路,将该分析器分别调整到步骤4)记录的角度位置上,利用成像探测器分别接收该分析器出射的信号,采集图像。 |
所属类别: |
发明专利 |