专利名称: |
一种利用离子色谱测定氰根离子的方法 |
摘要: |
本发明公开一种利用离子色谱法测定痕量氰根离子的方法,包括以下步骤:配制含NaOH、NaOAc、乙二胺的淋洗液,质量浓度为1.0ug/ml的氰根标准溶液以及待测定药物的样品溶液;分别进离子色谱仪进行分析,对谱图进行积分,再根据公式计算得到氰根残留量。用本发明的方法,无需提前配置指示剂及多种滴定剂,可以节省大量的时间;离子色谱进样分析的操作简单,简化了滴定法的复杂操作过程;提高检测结果的准确性,并且大大降低了检测限度,克服了滴定终点判断的主观性;避免了分光光度法受基质干扰比较大的缺陷;避免了比色法中人眼观察主观性强的缺陷。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江苏;32 |
申请人: |
常州合全药业有限公司 |
发明人: |
朱澄静;俞榕;杜建;蒋竞;赵初芒 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810970572.0 |
公开号: |
CN109001367A |
代理机构: |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人: |
郑权 |
分类号: |
G01N30/96(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N30;G01N30/96 |
申请人地址: |
213034 江苏省常州市新北区玉龙北路589号 |
主权项: |
1.一种利用离子色谱法测定痕量氰根离子的方法,其特征在于,包括以下步骤:配制含NaOH、NaOAc、乙二胺的淋洗液,质量浓度为1.0ug/ml的氰根标准溶液以及待测定药物的样品溶液;分别进离子色谱仪进行分析,对谱图进行积分,再根据公式计算得到氰根残留量;其中:CSTD 01:标准溶液中氰根的浓度;ASTD 01:标准溶液中氰根的峰面积;WS:样品的质量;VS:样品的稀释体积;AS:样品溶液中氰根的峰面积。 |
所属类别: |
发明专利 |