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原文传递高压水射流真空环保施釉设备

专利名称：	高压水射流真空环保施釉设备
摘要：	高压水射流真空环保施釉设备陶瓷表面施釉用设备。主要是为解决目前施釉时产生的釉雾和粉尘污染环境的问题而设计的。它包括施釉柜，施釉柜内的两个侧板及背板上都有上储水槽，进水管从侧板中伸入到施釉柜内，施釉柜内的下部有隔板，隔板下方有下储水槽，隔板上有进水口；施釉柜的顶板上连接有排气管；水箱上有溢流口和排污口，水箱与下储水槽之间连接有管道，管道上有阀门；水泵的进水口连接有吸水管，吸水管伸入到水箱内的下部；排气管的另一端与真空室相连通，水泵连接的出水管的另一端伸入到真空室内，出水管端部有喷淋头，真空室的下端为出口，真空室伸入到水箱内。优点是对环境污染小。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	辽宁;21
申请人：	辽宁建筑职业学院
发明人：	韩古月;聂立武;周大勇;高树彬
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201820748502.6
公开号：	CN208263106U
代理机构：	北京市东方至睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11485
代理人：	史惠莉
分类号：	B28B11/04(2006.01)I;B28B17/04(2006.01)I;B;B28;B28B;B28B11;B28B17;B28B11/04;B28B17/04
申请人地址：	111000 辽宁省辽阳市白塔区青年大街24号
主权项：	1.高压水射流真空环保施釉设备，包括施釉柜（1），施釉柜包括背板、两个侧板、底板、顶板，两个侧板的后端与背板连接固定，两个侧板及背板的上端与顶板连接固定，两个侧板及背板的下端与底板连接固定，其特征是：在施釉柜内的两个侧板及背板上都设有上储水槽（2），两个侧板及背板上的上储水槽相连通，进水管（3）从上储水槽上方的侧板中伸入到施釉柜内，进水管的出水口位于上储水槽的正上方，施釉柜内的下部设有隔板（4），隔板的下方设有下储水槽（5），隔板上设有进水口（6）；施釉柜的顶板上连接有排气管（7）；还包括水箱（8），水箱上设有溢流口（9）和排污口（10），水箱与施釉柜内的下储水槽之间连接有管道（11），管道上设有阀门；水泵（12）的进水口连接有吸水管（13），吸水管伸入到水箱内的下部；还包括真空室（14），施釉柜顶板上连接的排气管的另一端与真空室相连通，水泵出水口上连接的出水管（15）的另一端伸入到真空室内，出水管的端部有喷淋头（16），真空室的下端为出口，真空室的底部伸入到水箱内。
所属类别：	实用新型