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一种用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备、系统及工艺
| 专利名称： | 一种用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备、系统及工艺 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备、系统及工艺，属于陶瓷原料的领域，所述用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备包括壳体、安装在所述壳体内的双层转盘，所述双层转盘包括呈垂直分布的上层散料盘和第二层盘，所述第二层盘可接住从上层散料盘滚落的颗粒，所述双层转盘被驱动装置驱动，所述双层转盘上方设有进料管和雾化喷枪，所述上层散料盘边缘分布有折流风环，所述第二层盘的侧面开有进风口和出料口，所述壳体上部设有出风口。本发明提供一种仿湿法造粒的颗粒形成过程，形成了粒子的容重、圆形度等特性更接近于湿法喷雾干燥造粒的粒子，使其能满足低吸水率抛釉砖坯体生产的要求的用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备、系统及工艺。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 天津;12 |
| 申请人： | 天津水泥工业设计研究院有限公司 |
| 发明人： | 张明飞;王秀龙;赵艳妍;彭学平;聂文海;倪祥平 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810981087.3 |
| 公开号： | CN109049266A |
| 代理机构： | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 |
| 代理人： | 王超 |
| 分类号： | B28B1/00(2006.01)I;B28B17/04(2006.01)I;B01J2/14(2006.01)I;B;B28;B01;B28B;B01J;B28B1;B28B17;B01J2;B28B1/00;B28B17/04;B01J2/14 |
| 申请人地址： | 300400 天津市北辰区引河里北道1号 |
| 主权项： | 1.一种用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备，其特征在于：所述用于低吸水率抛釉砖的干法制粉工艺的造粒设备包括壳体、安装在所述壳体内的双层转盘，所述双层转盘包括呈垂直分布的上层散料盘和第二层盘，所述第二层盘可接住从上层散料盘滚落的颗粒，所述双层转盘被驱动装置驱动，所述双层转盘上方设有进料管和雾化喷枪，所述上层散料盘边缘分布有折流风环，所述第二层盘的侧面开有进风口和出料口，所述壳体上部设有出风口。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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