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一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备及应用
| 专利名称： | 一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备及应用 |
| 摘要： | 本发明属于红外光谱技术领域，更具体地，涉及一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备和应用。其以衰减全反射晶片为基底，在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层，所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10‑3～1Ω·cm；红外光以一定角度入射至所述衰减全反射晶片内表面，该内表面与所述掺硼金刚石薄膜层相邻，所述红外光在该内表面上发生折射和反射，折射后的红外光进入所述掺硼金刚石薄膜层，且在所述掺硼金刚石薄膜层内发生全发射。该晶片实现良好导电作用的同时又使得红外信号检测成为可能，可实现待测分子在BDD电极表面电化学过程中的原位电化学检测，在电化学、原位红外检测领域具有广阔的应用前景。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 湖北;42 |
| 申请人： | 华中科技大学 |
| 发明人： | 胡敬平;陈思静;帕乌刘斯·波贝丁斯卡斯;约翰·福德;肯·哈嫩;武龙胜;侯慧杰;刘冰川;杨家宽 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810906071.6 |
| 公开号： | CN109060900A |
| 代理机构： | 华中科技大学专利中心 42201 |
| 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 分类号： | G01N27/26(2006.01)I;G01N21/35(2014.01)I;C23C16/27(2006.01)I;G;C;G01;C23;G01N;C23C;G01N27;G01N21;C23C16;G01N27/26;G01N21/35;C23C16/27 |
| 申请人地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |
| 主权项： | 1.一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片，其特征在于，其以衰减全反射晶片为基底，在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层，所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10‑3～1Ω·cm；红外光以一定角度入射至所述衰减全反射晶片内表面，该内表面与所述掺硼金刚石薄膜层相邻，所述红外光在该内表面上发生折射和反射，折射后的红外光进入所述掺硼金刚石薄膜层，且在所述掺硼金刚石薄膜层内发生全发射。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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