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全反射衰减型远紫外分光法及使用其的浓度测量装置
| 专利名称： | 全反射衰减型远紫外分光法及使用其的浓度测量装置 |
| 摘要： | 在使用衰减的全反射的远紫外分光法中，通过使用全反射光的衰减波来测量全反射光。其穿透深度在远紫外范围内的波长范围内等于或大于150nm，其中穿透深度取决于远紫外光的波长、待测量对象的折射率、所述探针的光学材料的折射率以及远紫外光在探针与对象的界面处的入射角。全反射衰减型探针由光学材料制成，所述光学材料被选择为使得穿透深度在远紫外波长范围内等于或高于150nm，并且所述探针与待测量对象在界面处进行接触，并且在所述波长范围内远紫外光以大于临界角的入射角入射在界面上，以便使穿透深度等于或高于150nm。测量来自界面的全反射光并且确定待测量对象的吸光率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 仓敷纺绩株式会社 |
| 发明人： | 东升;苅山直美;池羽田晶文 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-03-03T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200980107696.5 |
| 公开号： | CN101960292A |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
| 代理人： | 刘金凤;王忠忠 |
| 分类号： | G01N21/27(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本冈山县 |
| 主权项： | 一种用于利用远紫外全反射衰减型探针测量全反射光的方法，其中全反射光的衰减波的穿透深度在远紫外波长范围内等于或高于150nm，所述穿透深度取决于远紫外光的波长、待测量对象的折射率、所述探针的光学材料的折射率以及所述远紫外光在所述探针和所述对象之间的界面上的入射角，所述方法包括：提供由光学材料制成的全反射衰减型探针以使所述探针在所述探针与待测量对象之间的界面处与所述对象相接触，所述光学材料被选择为使得所述穿透深度在远紫外波长范围内等于或高于150nm；使所述远紫外光入射在所述界面上，该光具有处于所述波长范围内的波长并且具有大于临界角的入射角以便使所述穿透深度等于或高于150nm；以及测量来自所述界面的全反射光，以确定待测量对象的吸光率。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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