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原文传递水平钻孔内局部灌浆装置

专利名称：	水平钻孔内局部灌浆装置
摘要：	本实用新型公开一种用于水平钻孔的局部灌浆装置，其包括壳体，壳体的外侧包覆有弹性伸缩层，弹性伸缩层与壳体间形成有能够依弹性伸缩层膨胀或复位而扩大或缩小的容置空间。壳体的一端具有混合器，与混合器相对的另一端设有推杆连接口。混合器远离壳体的端部设有输出口。壳体内具有连接到混合器的第一灌注管及第二灌注管，以及连通容置空间的注水管。第一灌注管及第二灌注管内还设有防止所灌注的浆液回流的单向控制阀。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	中国人民解放军火箭军工程设计研究院
发明人：	路杙;魏金魁;田福池;李剑锋;曹兵;罗立平;蔡泉;谢耀权;李彦恒;吴建文
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201820357242.X
公开号：	CN208056065U
代理机构：	北京慧智兴达知识产权代理有限公司 11615
代理人：	王晨曦;薛华
分类号：	E02D15/02(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D15;E02D15/02
申请人地址：	100011 北京市东城区安德里北街18号
主权项：	1.一种水平钻孔内局部灌浆装置，其特征在于，包括设置于壳体内的第一灌注管及第二灌注管；所述壳体的一端设有混合器，第一灌注管及第二灌注管与所述混合器相连通。
所属类别：	实用新型