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一种锆石裂变径迹薄片的制备方法
| 专利名称： | 一种锆石裂变径迹薄片的制备方法 |
| 摘要： | 本发明提供了一种锆石裂变径迹薄片的制备方法，其包括以下步骤：(1)、对锆石薄片初品进行粗磨，以磨掉锆石颗粒最外部的粗糙部位露出内部洁净部位；(2)、采用抛光布对步骤(1)粗磨后得到的样品进行粗抛光，以除去锆石薄片初品上的深大擦痕；(3)、再采用抛光布对步骤(2)粗抛光后得到的样品进行细抛光，以除去锆石薄片初品上的粗擦痕；(4)、再采用抛光布对步骤(3)细抛光后得到的样品进行精抛光，以除去锆石薄片初品上的细微擦痕，得到所述锆石裂变径迹薄片。与现有方法相比，本发明所提供的制备方法可有效提高锆石裂变径迹薄片的制样效率和精度。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 中国石油大学(北京) |
| 发明人： | 常健;邱楠生;王江珊;冯乾乾;刘帅 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201710950453.4 |
| 公开号： | CN107576545A |
| 代理机构： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
| 代理人： | 闫加贺;姚亮 |
| 分类号： | G01N1/28(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I;G;B;G01;B24;G01N;B24B;G01N1;B24B1;G01N1/28;B24B1/00 |
| 申请人地址： | 102249 北京市昌平区府学路18号 |
| 主权项： | 一种锆石裂变径迹薄片的制备方法，其包括以下步骤：(1)、对锆石薄片初品进行粗磨，以磨掉锆石颗粒最外部的粗糙部位露出内部洁净部位；其中，粗磨所用的研磨材料是粒度为1200‑1600目的金刚石砂纸，所用润滑剂为纯净水，研磨压力为5‑8N，磨盘转速为200‑300rpm，研磨时间为10‑15分钟；(2)、采用抛光布对步骤(1)粗磨后得到的样品进行粗抛光，以除去锆石薄片初品上的深大擦痕；其中，粗抛光所用抛光剂为6μm钻石膏2‑4mL，并添加100‑150mL纯净水对其进行稀释，粗抛光压力为5‑8N，磨盘转速为300‑350rpm，抛光时间为6‑9min；(3)、再采用抛光布对步骤(2)粗抛光后得到的样品进行细抛光，以除去锆石薄片初品上的粗擦痕；其中，细抛光所用抛光剂为3μm钻石膏2‑4mL，并添加100‑150mL纯净水对其进行稀释，细抛光压力为5‑8N，磨盘转速为350‑400rpm，抛光时间为6‑8min；(4)、再采用抛光布对步骤(3)细抛光后得到的样品进行精抛光，以除去锆石薄片初品上的细微擦痕，得到所述锆石裂变径迹薄片；其中，精抛光所用抛光剂为0.5～1μm钻石膏2‑4mL，并添加100‑150mL纯净水对其进行稀释，精抛光压力为5‑6N，磨盘转速为350‑400rpm，抛光时间为8‑10min。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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