专利名称: |
多个带电粒子束的设备 |
摘要: |
提出了一种多束设备中的二次投影成像系统,该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜,一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能,以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
中国台湾;71 |
申请人: |
汉民微测科技股份有限公司 |
发明人: |
任伟明;刘学东;胡学让;陈仲玮 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201680069949.4 |
公开号: |
CN108738343A |
代理机构: |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人: |
王静 |
分类号: |
G01N23/2251(2018.01)I;H01J37/10(2006.01)I;H01J37/153(2006.01)I;G;H;G01;H01;G01N;H01J;G01N23;H01J37;G01N23/2251;H01J37/10;H01J37/153 |
申请人地址: |
中国台湾新竹市 |
主权项: |
1.一种用于观察样品的表面的多束设备,包括:电子源;位于所述电子源下方的聚光透镜;位于所述聚光透镜下方的源转换单元;位于所述源转换单元下方的物镜;位于所述源转换单元下方的偏转扫描单元;位于所述物镜下方的样品台;位于所述源转换单元下方的束分离器;以及位于所述束分离器上方的检测单元,所述检测单元包括二次投影成像系统和具有多个检测元件的电子检测装置,其中,所述电子源、所述聚光透镜、所述源转换单元、所述物镜、所述偏转扫描单元和所述束分离器与所述多束设备的主光轴对准,所述样品台支撑所述样品,使所述表面面向所述物镜,所述检测单元与所述多束设备的副光轴对准,并且所述副光轴不平行于所述主光轴,其中,所述多个检测元件被放置在检测平面上,所述二次投影成像系统包括变焦透镜、防扫描偏转单元和投影透镜,其中,所述电子源产生沿所述主光轴的一次电子束,所述聚光透镜将所述一次电子束聚焦到一定程度,所述源转换单元将所述一次电子束改变为多个细束并使所述多个细束形成所述电子源的多个第一图像,所述物镜聚焦所述多个细束以将所述多个第一图像成像到所述表面上,并因此分别在所述表面上形成多个探针斑,并且所述偏转扫描单元偏转所述多个细束以分别在所述表面上的观察区域内的多个扫描区域上扫描所述多个探针斑,其中,多个二次电子束由所述多个探针斑分别从所述多个扫描区域产生,然后入射到所述物镜,所述物镜在所述多个二次电子束从中通过时聚焦所述多个二次电子束,并且所述束分离器使所述多个二次电子束偏转以沿所述副光轴进入所述二次投影成像系统,其中,所述变焦透镜将所述多个二次电子束聚焦到传输平面上,所述传输平面位于所述变焦透镜和所述投影透镜之间,并且所述多个二次电子束在所述变焦透镜和所述传输平面之间形成第一交叉,其中,所述投影透镜然后将所述多个二次电子束聚焦到所述检测平面上,所述多个二次电子束在所述投影透镜和所述检测平面之间形成第二交叉,并在所述检测平面上形成多个二次电子斑,所述多个二次电子斑分别位于所述多个检测元件内部,因此建立了所述多个探针斑与所述多个检测元件之间的对应关系,相应地,每个检测元件产生一个对应的扫描区域的图像信号,其中,所述防扫描偏转单元与所述多个探针斑在所述多个扫描区域上的扫描同步地偏转所述多个二次电子束,以保持所述多个二次电子斑的位置,从而始终保持所述对应关系,其中,所述变焦透镜的成像放大倍率被调节以在不同条件下观察所述表面时保持所述对应关系。 |
所属类别: |
发明专利 |