专利名称: |
光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法 |
摘要: |
一种光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法。该装置包括:光源,沿光源的光束传播方向依次放置样品台、显微放大系统、分光系统和探测系统。本发明具有装置简单、成本低、操作方便等优点,可测量光学元件位相型缺陷。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
发明人: |
李杰;许乔;李亚国;巴荣声;张霖;周信达;郑垠波;丁磊;柴立群 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810964806.0 |
公开号: |
CN108802056A |
代理机构: |
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 |
代理人: |
张宁展 |
分类号: |
G01N21/88(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/88;G01N21/01 |
申请人地址: |
621900 四川省绵阳市绵山路64号 |
主权项: |
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置,其特征在于包括激光光源(1),沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5);所述的激光光源(1)提供准平行光;所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节,使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上;所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域;所述的分光系统(4)包括光栅(401),所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测器(5)之间;所述的探测系统(5)包括探测器(501),所述的探测器(501)置于探测器位移控制台(502)上并处于所述的分光系统(4)后方。 |
所属类别: |
发明专利 |