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原文传递介质偏斜校正

专利名称：	介质偏斜校正
摘要：	通过确定介质的前缘偏斜值和从用于介质类型的存储器中选择相应的介质模型来执行介质偏斜校正，每个介质模型包括成对的斜率和截距。基于用于相应的介质模型的成对的斜率和截距，调整介质进给机构中的对齐的介质进给辊的对的差速以将介质的后缘偏斜校正到期望的操作窗口内。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	惠普发展公司有限责任合伙企业
发明人：	绍拉卜·比德;瑞菲尔·冈萨雷斯;卢克·P·索斯诺夫斯基;约瑟夫·埃梅里
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201580084064.7
公开号：	CN108137254A
代理机构：	北京德琦知识产权代理有限公司 11018
代理人：	康泉;宋志强
分类号：	B65H9/00(2006.01)I;B65H9/20(2006.01)I;B;B65;B65H;B65H9;B65H9/00;B65H9/20
申请人地址：	美国德克萨斯州
主权项：	一种用于校正介质的偏斜的非暂时性计算机可读介质，包括当由处理器执行时使所述处理器进行以下操作的指令：确定所述介质的前缘偏斜值；从用于介质类型的存储器中选择相应的介质模型，每个介质模型包括成对的斜率和截距；并且基于用于所述相应的介质模型的所述成对的斜率和截距，调整介质进给机构中的对齐的介质进给辊的对的差速以将所述介质的后缘偏斜校正到期望的操作窗口内。
所属类别：	发明专利