专利名称: |
荧光测定装置的校正用基准体 |
摘要: |
基准体(1)包括:支撑体(10),其设置有第1光通过部(18)及第2光通过部(19)、以及第1收纳空间(14)及第2收纳空间(15);第1荧光体(20),其收纳于第1收纳空间(14),在第1波长区域的第1激发光经由第1光通过部(18)被照射时发出第2波长区域的第1荧光;第2荧光体(30),其收纳于第2收纳空间(15),在第1波长区域的第2激发光经由第2光通过部(19)被照射时发出第2波长区域的第2荧光;以及遮光部(13),其配置于第1收纳空间(14)与第2收纳空间(15)之间。在入射至第1光通过部(18)的第1激发光的光量与入射至第2光通过部(19)的第2激发光的光量相互相等的情况下,自第1光通过部(18)出射的第1荧光的光量与自第2光通过部(19)出射的第2荧光的光量互不相同。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
浜松光子学株式会社 |
发明人: |
长谷川宽;中村隆之;石上喜浩;近藤房宣 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201780030146.2 |
公开号: |
CN109154570A |
代理机构: |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人: |
杨琦 |
分类号: |
G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
日本静冈县 |
主权项: |
1.一种荧光测定装置的校正用基准体,其特征在于,包括:支撑体,其设置有第1光通过部及第2光通过部、以及与所述第1光通过部相对的第1收纳空间及与所述第2光通过部相对的第2收纳空间;第1荧光体,其收纳于所述第1收纳空间,在第1波长区域的第1激发光经由所述第1光通过部被照射时发出第2波长区域的第1荧光;第2荧光体,其收纳于所述第2收纳空间,在所述第1波长区域的第2激发光经由所述第2光通过部被照射时发出所述第2波长区域的第2荧光;以及遮光部,其配置于所述第1收纳空间与所述第2收纳空间之间,在入射至所述第1光通过部的所述第1激发光的光量与入射至所述第2光通过部的所述第2激发光的光量相互相等的情况下,自所述第1光通过部出射的所述第1荧光的光量与自所述第2光通过部出射的所述第2荧光的光量互不相同。 |
所属类别: |
发明专利 |