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原文传递一种盖带结构

专利名称：	一种盖带结构
摘要：	一种盖带结构，包括两层基材薄膜层，所述两层基材薄膜层通过第一胶黏层连接为一体，在其中一层基材薄膜层未设置第一胶黏层的表面上设置有第二胶黏层，在第二胶黏层上沿其长度方向上设置有两条相对称的切口，所述切口的深度由第二胶黏层伸入到与第二胶黏层连接的基材薄膜层中。该盖带结构具有稳定且均匀的剥离强度。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	广州市中载电子科技有限公司
发明人：	刘兴乐
专利状态：	有效
申请号：	CN201820931191.7
公开号：	CN208360901U
代理机构：	广州致信伟盛知识产权代理有限公司 44253
代理人：	伍嘉陵;胡琴
分类号：	B65D73/02(2006.01)I;B;B65;B65D;B65D73
申请人地址：	511450 广东省广州市番禺区石基镇新凌路桥山村段6号之1号楼4楼
主权项：	1.一种盖带结构，其特征在于：包括两层基材薄膜层(1)，所述两层基材薄膜层(1)通过第一胶黏层(2)连接为一体，在其中一层基材薄膜层(1)未设置第一胶黏层(2)的表面上设置有第二胶黏层(3)，在第二胶黏层(3)上沿其长度方向上设置有两条相对称的切口(4)，所述切口(4)的深度由第二胶黏层(3)伸入到与第二胶黏层(3)连接的基材薄膜层(1)中。
所属类别：	实用新型