专利名称: |
盖带改良结构 |
摘要: |
一种盖带改良结构,是于二片状的第一、二基层之间设有一具有较小剥离强度的第一胶层,于该第二基层的另一侧表面设有具较大剥离强度的第二胶层,以供黏合于一预设承载带的二旁侧,且于该第二基层二旁侧与该承载带结合的部位分别设有一纵向延伸的贯穿切槽,使该第二基层可被分割成一位于中间部位的中脱部、以及位于二旁部位的固定部,当该盖带作剥离时,能以稳定且较小的拉力,使该第一基层与该第二基层的二固定部先分离,并让该中脱部随该第一基层直接与该承载带脱离。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
中国台湾;71 |
申请人: |
仁仪企业股份有限公司 |
发明人: |
吴宥桦;吴柏勋 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2017-11-06T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-14T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201711075489.9 |
公开号: |
CN109747972A |
代理机构: |
长沙正奇专利事务所有限责任公司 |
代理人: |
何为;袁颖华 |
分类号: |
B65D77/20(2006.01);B;B65;B65D;B65D77 |
申请人地址: |
中国台湾台北市士林区承德路四段83号5楼之1 |
主权项: |
1.一种盖带改良结构,其用以封合一承载带,其特征在于,其包括: 一长条片状的第一基层; 一与该第一基层具有相同形状的片状第二基层; 一第一胶层,设置于该第一基层接近该第二基层的一侧表面,以供黏合该第一基层与该第二基层并形成一相应的第一剥离强度,使该第一基层能受拉力作用而与该第二基层相剥离; 一第二胶层,设置于该第二基层远离该第一基层的一侧表面,以供黏合该第二基层与该承载带并形成一相应的第二剥离强度,且该第二剥离强度大于该第一剥离强度; 其中,该第二基层二旁侧设有二纵向延伸的切槽,使该第二基层能被分割成位于中间部位的中脱部、以及位于二旁部位用以黏合该承载带的固定部,使该盖带在剥离于该承载带时,能以该第一剥离强度的拉力使该第一基层与该第二基层的二固定部先分离,而该第二基层的二固定部能保持黏合于该承载带上,且该中脱部则能随该第一基层直接与该承载带脱离。 2.如权利要求1所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第一基层远离该第二基层的一侧表面披覆有一机能涂布层。 3.如权利要求2所述的盖带改良结构,其特征在于,所述机能涂布层为一抗静电层。 4.如权利要求1所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第一基层与第二基层为PET材质或OPP材质。 5.如权利要求1所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第一胶层为低剥离强度的轻黏性PSA胶。 6.如权利要求5所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第一胶层作用于该二固定部与该第一基层之间的剥离强度介于20-80g之间。 7.如权利要求1所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第二胶层为高剥离强度的重黏性热熔胶或重黏性PSA胶。 8.如权利要求7所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第二胶层作用于该第二基层的二固定部与该承载带之间的剥离强度为100g以上。 9.如权利要求8所述的盖带改良结构,其特征在于,所述第二胶层远离该第二基层的一表侧于对应该中脱部的部位披覆有一机能涂布层。 10.如权利要求9所述的盖带改良结构,其特征在于,所述机能涂布层为一抗静电层。 |
所属类别: |
发明专利 |