专利名称: |
一种场聚焦效应的电推进装置 |
摘要: |
本发明涉及一种场聚焦效应的电推进装置,属于卫星推进领域,解决了现有技术中推进效率低的问题。包括:栅极、第一支撑、场聚焦极、第二支撑、发射极、基底;发射极上设有发射锥,场聚焦极设置在发射锥的尖端,且不与发射锥的尖端接触;栅极设置在发射锥尖端方向,且栅极与发射锥之间留有距离;栅极通过第一支撑与基底连接,场聚焦极通过第二支撑与基底连接;场聚焦极和栅极对应发射锥的位置均设有形状和尺寸相同的通孔;栅极与发射极之间设有电位差,发射极和场聚焦极之间无电位差;发射极为多孔材料,孔中填充推进剂。本发明通过场聚焦极能够有效降低羽流发散程度,减小羽流发散带来的推力损失。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
北京机械设备研究所 |
发明人: |
高辉;罗杨;许诺;魏厚震 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811280396.4 |
公开号: |
CN109204888A |
代理机构: |
北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 |
代理人: |
李明里;庞许倩 |
分类号: |
B64G1/40(2006.01)I;B;B64;B64G;B64G1 |
申请人地址: |
100854 北京市海淀区永定路50号(北京市142信箱208分箱) |
主权项: |
1.一种场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述电推进装置包括:栅极(1)、第一支撑(2)、场聚焦极(4)、第二支撑(3)、发射极(5)、基底(8);所述发射极(5)上设有发射锥,所述场聚焦极(4)设置在所述发射锥的尖端,且不与所述发射锥的尖端接触;所述栅极(1)设置在所述发射锥尖端方向,且所述栅极(1)与发射锥之间留有间隙;所述栅极(1)通过所述第一支撑(2)与所述基底(8)连接,所述场聚焦极(4)通过所述第二支撑(3)与所述基底(8)连接;所述场聚焦极(4)和栅极(1)对应所述发射锥的位置均设有形状和尺寸相同的通孔;所述栅极(1)与发射极(5)之间设有电位差,所述发射极(5)和场聚焦极(4)之间无电位差;所述发射极(5)为多孔材料,孔中填充推进剂。 |
所属类别: |
发明专利 |