专利名称: |
矿物微区微结构微成分分析方法 |
摘要: |
本发明公开了一种矿物微区微结构微成分分析方法,本发明利用扫描电镜仪器对硅质岩的矿物进行微形貌分析、微结构分析和微组分分析。本发明方法测量结果精准,从微观尺度的角度分析硅质岩的矿物微区、微组构和微成分。探索硅质岩的成因、形成环境与过程,从而深化了对硅质岩的认识。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
中山大学 |
发明人: |
周永章;张彦龙;沈文杰;何俊国 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811048457.4 |
公开号: |
CN109239110A |
代理机构: |
成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 |
代理人: |
李鹏 |
分类号: |
G01N23/087(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
510275 广东省广州市海珠区新港西路135号 |
主权项: |
1.矿物微区微结构微成分分析方法,其特征是包括以下步骤:步骤一:将样品磨制成薄片,并将薄片喷碳或喷金;步骤二:将薄片放置于扫描电镜仪器分别进行微形貌分析、微结构分析和微组分分析;第一步微形貌分析:从硅质岩的截面形态、边界形态和共生矿物的排布进行分析;截面形态:原生SiO2质矿物根据组成硅质岩的SiO2矿质矿物结晶程度的不同,按照SiO2矿质矿物颗粒的粒度和自形程度可将其划分为非自形和自形两类;根据SiO2矿矿物的晶型及堆积方式,通过扫描电镜仪器扫描的SiO2矿物颗粒截面存在多种形态:自形晶呈短柱状、长柱状、双锥状、菱形、六边形并具有较好的棱角及相对平直的边界;非自形矿物则无明显的特征形态,颗粒无明显的棱角和平直边界;非SiO2质矿物通过扫描电镜仪器扫描,同生沉积的非SiO2质矿物呈零散状分布;变质矿物分布于硅质岩的高形变部位如微裂隙;外来矿物充填于裂隙呈集合体产出;边界形态:通过扫描电镜仪器扫描,根据形态将SiO2矿物划分为台阶状、絮状和过渡状,台阶状边界归属于石英颗粒正常生长过程的产物,絮状,絮状边界归属于后期流体改造的产物,过渡状态颗粒边界的形态及特征介于前两者之间;共生矿物的排布:通过扫描电镜仪器扫描,与SiO2质矿物共生的非SiO2质矿物的排布为杂乱无规律型、长轴定向型和过渡型,其中杂乱无规律型反应硅质岩内原生非SiO2质矿物的分布特征;第二步微结构特征:通过扫描电镜仪器扫描,硅质岩的微结构包括SiO2质矿物的结构和SiO2质矿物与共生矿物的结构;SiO2质矿物的结构以细小的长条带分布于石英颗粒体中,SiO2质矿物与共生矿物的结构包括四种,环带结构、交代结构、空隙充填结构和紧密镶嵌结构;第三步微成分特征:通过扫描电镜仪器扫描,根据矿物图像亮度与所含元素原子序数的关系,得出矿物组成成分。 |
所属类别: |
发明专利 |