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一种适用于光热反射法连续调节探测区域大小的光路系统
| 专利名称： | 一种适用于光热反射法连续调节探测区域大小的光路系统 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种适用于光热反射法连续调节探测区域大小的光路系统，用于连续调节物镜聚焦在待测样品表面的光斑大小，使探测区域放大，一是可以减小样品表面不均匀性给测试带来的误差，二是可以做到样品表面径向热导率的测量。通过螺旋位移台控制第一透镜的位置，第一透镜的焦点变动，经第二透镜和物镜聚焦在样品表面的尺寸变化，螺旋位移台连续变化，可实现光斑大小的连续控制。采用大光斑后，可消除待测样品表面的局部不均匀问题，使测试的结果更具有代表性，也更稳定。 |
| 专利类型： | 实用新型 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 中国科学院工程热物理研究所;中国科学院金属研究所 |
| 发明人： | 孙方远;王新伟;郭敬东;姜玉雁;唐大伟 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201820928511.3 |
| 公开号： | CN208459260U |
| 分类号： | G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 100190 北京市海淀区北四环西路11号 |
| 主权项： | 1.一种适用于光热反射法连续调节探测区域大小的光路系统，包括试验台以及设置在所述试验台上的待测样品、第一透镜、第二透镜、物镜、螺旋位移台和45°反射镜，其特征在于，所述待测样品、物镜、第二透镜、第一透镜、45°反射镜依次间距布置在所述试验台上，所述待测样品、物镜、第二透镜、45°反射镜固定设置在所述试验台上，所述第一透镜固定设置在所述螺旋位移台上，所述螺旋位移台可水平滑动地设置在所述试验台上，所述待测样品的测试表面置于所述物镜的焦点处，所述待测样品的测试表面产生的探测光通过所述物镜后水平入射至所述第二透镜，并通过所述第二透镜继续入射至所述第一透镜并由该所述第一透镜水平投射至所述45°反射镜上，所述45°反射镜将入射至其表面的上述探测光反射至一光电探测器中，所述光电探测器还用以发射抽运光，所述抽运光通过所述45°反射镜水平反射至所述第一透镜，并依次透过所述第二透镜、物镜入射至所述待测样品的测试表面上。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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