专利名称: |
用于在样本中的多个位置询问参数的系统和方法 |
摘要: |
一种用于在样本(108)中的多个位置询问参数的系统(100)包括第一和第二超快激光源(102、104)、参考装置(110)以及检测器和处理器单元(124、128)。第一和第二超快激光源(102、104)在皮秒时域或更低时域中分别提供第一和第二多个脉冲以与样本在样本(108)中的多个位置进行交互,以提供经处理脉冲。此外,将第一和第二超快激光源(102和104)配置成分别提供具有第一和第二重复率的梳频率。将检测器单元(124)配置成检测经处理脉冲的至少一部分、第二多个脉冲、和参考的脉冲。将处理器单元(128)配置成处理所检测的脉冲并且提供针对样本(108)中的多个位置的参数的测量。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
美国;US |
申请人: |
通用电气公司 |
发明人: |
A.贝卡尔;R.莎马;S.D.瓦塔克 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201780040823.9 |
公开号: |
CN109328300A |
代理机构: |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人: |
姜冰;张金金 |
分类号: |
G01N21/31(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
美国纽约州 |
主权项: |
1.一种用于在样本(108)中的多个位置询问一个或多个参数的系统(100),包括:第一超快激光源(102),所述第一超快激光源(102)配置成在皮秒时域或更低时域中提供第一多个脉冲,其中将所述第一超快激光源(102)配置成提供具有第一重复率的梳频率,并且其中所述第一多个脉冲与所述样本(108)在所述样本(108)中的所述多个位置进行交互以提供经处理脉冲;第二超快激光源(104),所述第二超快激光源(104)配置成在皮秒时域或更低时域中提供第二多个脉冲,其中将所述第二超快激光源(104)配置成提供具有与所述第一重复率不同的第二重复率的梳频率;参考装置(110),所述参考装置(110)配置成提供具有可变时间延迟、可变相位延迟、可变路径长度差、或其组合的参考的脉冲;检测器单元(124),所述检测器单元(124)配置成检测来自所述第一超快激光源(102)的所述经处理脉冲的至少一部分、来自所述第二超快激光源(104)的所述第二多个脉冲、和所述参考的脉冲;以及处理器单元(128),所述处理器单元(128)配置成处理所检测的脉冲并且提供针对所述样本(108)中的所述多个位置的所述一个或多个参数的测量。 |
所属类别: |
发明专利 |