专利名称: |
一种岩石薄片分析目标定位装置 |
摘要: |
本实用新型涉及一种岩石薄片分析目标定位装置,属于岩石样品原位微区分析技术领域,解决了如何在激光剥蚀等离子体质谱(LA‑ICP‑MS)光学镜头下对扫描电子显微镜(SEM)的同一个分析目标进行快速精确定位。该定位装置包括固定脚、定位脚以及设置在固定脚和定位脚顶端的把头,把头下端连接有四个定位脚,固定有一个固定脚;固定脚位于四个定位脚中间;定位脚两两相对设置,相对设置的两个定位脚与固定脚位于同一个平面,两组相对设置的定位脚形成的两个平面互相垂直;固定脚和定位脚的底端分别设置有标记工具;定位脚标记工具与薄片的四个接触点连接构成直角坐标系,固定脚标记工具与薄片的接触点为直角坐标系原点。实现了岩石薄片分析目标的快速精确定位。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
国家地质实验测试中心 |
发明人: |
赵鸿;屈文俊;赵九江;李超;周利敏;李欣尉 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201821330569.4 |
公开号: |
CN208568775U |
代理机构: |
北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 |
代理人: |
胡时冶;马东伟 |
分类号: |
G01N33/24(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N33 |
申请人地址: |
100037 北京市西城区百万庄大街26号 |
主权项: |
1.一种岩石薄片分析目标定位装置,包括固定脚、定位脚以及设置在固定脚和定位脚顶端的把头,其特征在于,所述把头下端连接有四个所述定位脚,固定有一个所述固定脚;所述固定脚位于四个所述定位脚中间;所述定位脚两两相对设置,相对设置的两个定位脚与固定脚位于同一个平面,两组相对设置的定位脚形成的两个平面互相垂直,固定脚所在直线为两个垂直平面的交线;所述固定脚和定位脚的底端分别设置有标记工具;所述定位脚标记工具与薄片的四个接触点连接构成直角坐标系,所述固定脚标记工具与薄片的接触点为直角坐标系原点。 |
所属类别: |
实用新型 |