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原文传递激光晶化度测量设备和方法

专利名称：	激光晶化度测量设备和方法
摘要：	提供了一种激光晶化度测量设备和一种用于测量激光晶化度的方法。该激光晶化度测量设备包括：光谱仪，被构造为测量通过激光晶化装置晶化的实际多晶硅层的光谱的实际数据；以及模拟装置，连接到光谱仪并且被构造为根据形成在虚拟多晶硅层中的虚拟突起的形状来确定虚拟多晶硅层的光谱的模拟数据，其中，通过利用通过选择与实际数据近似的模拟数据确定的最终数据来确定形成在实际多晶硅层中的实际突起的形状。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	韩国;KR
申请人：	三星显示有限公司;科美仪器公司
发明人：	朴龙俊;韩承镐;金暻隋;徐瑨;吴世允;林东燮;梁成勋;崔峻荣
专利状态：	有效
申请号：	CN201810972319.9
公开号：	CN109425576A
代理机构：	北京铭硕知识产权代理有限公司 11286
代理人：	尹淑梅;薛义丹
分类号：	G01N21/21(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	韩国京畿道龙仁市
主权项：	1.一种激光晶化度测量设备，所述激光晶化度测量设备包括：光谱仪，被构造为测量通过激光晶化装置晶化的实际多晶硅层的光谱的实际数据；以及模拟装置，连接到所述光谱仪并且被构造为根据形成在虚拟多晶硅层中的虚拟突起的形状来确定所述虚拟多晶硅层的光谱的模拟数据，其中，通过利用通过选择与所述实际数据近似的模拟数据确定的最终数据来确定形成在所述实际多晶硅层中的实际突起的形状。
所属类别：	发明专利