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光谱分析装置、光谱分析方法和存储介质
| 专利名称： | 光谱分析装置、光谱分析方法和存储介质 |
| 摘要： | 本发明提供光谱分析装置、光谱分析方法和存储介质，无需修正校准曲线就能灵活应对并修正相对于校准曲线制作时的温度与试样测定时的温度的变化的浓度变化。具体地说，所述光谱分析装置(100)根据向试样照射光而得到的分光光谱测定所述试样所含的测定对象成分的浓度，其包括：浓度计算部(11)，使用校准曲线并根据所述分光光谱计算所述测定对象成分的浓度；以及浓度修正部(12)，使用与求所述测定对象成分的浓度的波长区域或波数区域对应的温度修正式，对伴随所述校准曲线制作时的温度与所述浓度测定时的温度的温度差的所述测定对象成分的浓度变化进行修正。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 株式会社堀场制作所 |
| 发明人： | 西村克美;中谷茂;扬·波佩 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201810993895.1 |
| 公开号： | CN109425583A |
| 代理机构： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 |
| 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 分类号： | G01N21/31(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 日本京都府 |
| 主权项： | 1.一种光谱分析装置，其根据向试样照射光而得到的分光光谱测定所述试样所含的测定对象成分的浓度，所述光谱分析装置的特征在于，所述光谱分析装置包括：浓度计算部，使用校准曲线并根据所述分光光谱计算所述测定对象成分的浓度；以及浓度修正部，使用与求所述测定对象成分的浓度的波长区域或波数区域对应的温度修正式，对伴随温度差的所述测定对象成分的浓度变化进行修正，所述温度差是所述校准曲线制作时的温度与所述浓度测定时的温度的温度差。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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