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原文传递一种梯度陶瓷成形装置

专利名称：	一种梯度陶瓷成形装置
摘要：	本发明属于梯度陶瓷成形领域，并公开了一种梯度陶瓷成形装置。装置包括无孔模具和在竖直方向上平行且相对设置的第一支架、第二支架和第三支架，第一支架的上方和第三支架下方均设置有导电载体，用于在第一支架和第三支架之间形成均匀的静电场，第二支架上设置有外部包覆有加热垫的无孔模具，当陶瓷浆料注入进无孔模具中后，加热垫加热陶瓷浆料使得其中的酯类PH调节剂水解释放出弱酸，其与陶瓷浆料中的固化剂反应释放出高价的金属阳离子，在静电场的作用下金属阳离子在陶瓷浆料中呈梯度浓度分布，以此成形梯度陶瓷。通过本发明，实现成分梯度可调控且成分连续变化的梯度陶瓷的成形，操作简单，成形效率高，适用于多种结构和功能梯度陶瓷的制备。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	湖北;42
申请人：	华中科技大学
发明人：	吴甲民;陈安南;陆路;汪汝健;陈双;刘荣臻;史玉升;李晨辉
专利状态：	有效
申请号：	CN201811419796.9
公开号：	CN109465951A
代理机构：	华中科技大学专利中心 42201
代理人：	梁鹏;曹葆青
分类号：	B28B7/42(2006.01)I;B;B28;B28B;B28B7
申请人地址：	430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
主权项：	1.一种梯度陶瓷装置，其特征在于，所述装置包括第一支架(21)、第二支架(22)、第三支架(23)和无孔模具(4)，其中，所述第一支架(21)、第二支架(22)和第三支架(23)在竖直方向上平行且相对设置，所述第一支架(21)的上方和第三支架(23)的下方均设置有导电载体(3)，用于在所述第一支架(21)和第三支架(23)之间形成均匀的静电场，通过调节所述第一支架(21)和第三支架(23)之间的距离调控所述静电场的场强，所述第二支架(22)上设置有所述无孔模具(4)，该无孔模具(4)的外部包覆着加热垫片(5)，用于加热所述无孔模具中的陶瓷浆料，当陶瓷浆料注入进所述无孔模具(4)中后，所述加热垫片(5)加热陶瓷浆料，使得所述陶瓷浆料中的酯类PH调节剂水解释放出弱酸，其与所述陶瓷浆料中的固化剂反应释放出高价的金属阳离子，在所述静电场的作用下所述金属阳离子在所述陶瓷浆料中呈梯度浓度分布，以此成形梯度陶瓷。
所属类别：	发明专利