专利名称: |
真空调节机构 |
摘要: |
本实用新型公开了一种真空调节机构,包括基座和真空接头,所述基座内部设有真空腔,基座的吸附面设有一排与所述真空腔连通的真空孔,所述真空接头安装于基座的侧壁并且真空接头与真空腔连通,通过真空接头对真空腔抽真空,从而在吸附面产生吸附力;还包括真空调节导杆;所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内,并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈,通过调节真空调节导杆插入真空腔的深度从而改变吸附面的吸附面积。本实用新型增加了基座调节吸附面积的功能,减少人工更换的次数,提高生产效率,同时提高吸附定位的精确度。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
喻泷 |
发明人: |
喻泷 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201821212034.7 |
公开号: |
CN208603337U |
代理机构: |
北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 11514 |
代理人: |
邹成娇 |
分类号: |
B65G47/91(2006.01)I;B;B65;B65G;B65G47 |
申请人地址: |
518000 广东省深圳市南山区桃源街道留仙大道1213号众冠红花岭工业南区2区2栋1楼 |
主权项: |
1.一种真空调节机构,包括基座和真空接头,所述基座内部设有真空腔,基座的吸附面设有一排与所述真空腔连通的真空孔,所述真空接头安装于基座的侧壁并且真空接头与真空腔连通,通过真空接头对真空腔抽真空,从而在吸附面产生吸附力;其特征在于:还包括真空调节导杆;所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内,并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈,通过调节真空调节导杆插入真空腔的深度从而改变吸附面的吸附面积。 |
所属类别: |
实用新型 |