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X射线成像装置及X射线成像方法
| 专利名称： | X射线成像装置及X射线成像方法 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种X射线成像装置及X射线成像方法。该X射线成像装置包括X射线发射器、X射线强度探测器和控制模块；所述X射线发射器、待测物以及所述X射线强度探测器沿X射线传输方向依次设置；其中，所述X射线发射器包括靶材和阵列排布的电子发射源；所述靶材与各所述电子发射源均相对设置；各所述电子发射源均与所述控制模块连接，所述控制模块还与所述X射线强度探测器连接。本发明提供的X射线成像装置可以降低X射线成像装置的制造难度、制造成本以及提升成像的空间分辨率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 国家纳米科学中心 |
| 发明人： | 戴庆;李振军;李驰;白冰 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811417134.8 |
| 公开号： | CN109507215A |
| 代理机构： | 北京品源专利代理有限公司 11332 |
| 代理人： | 孟金喆 |
| 分类号： | G01N23/04(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 100190 北京市海淀区中关村北一条11号 |
| 主权项： | 1.一种X射线成像装置，其特征在于，包括X射线发射器、X射线强度探测器和控制模块；所述X射线发射器、待测物以及所述X射线强度探测器沿X射线传输方向依次设置；其中，所述X射线发射器包括靶材和阵列排布的电子发射源；所述靶材与各所述电子发射源均相对设置；各所述电子发射源均与所述控制模块连接，所述控制模块还与所述X射线强度探测器连接。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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