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X射线成像装置、X射线成像方法和X射线成像装置的控制方法
| 专利名称： | X射线成像装置、X射线成像方法和X射线成像装置的控制方法 |
| 摘要： | 一种简化的X射线成像装置即使对于轻元素也能够以小的误差因数计算确定有效原子序数。X射线成像装置具有用于产生X射线的X射线产生单元101(400)和用于检测透过被检体104(403)的X射线的检测器105(405)。计算单元106(406)从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线相位的量和被检体的X射线透射率。计算单元还从由X射线相位的量确定的ρet和由X射线透射率确定的μt计算确定被检体的有效原子序数。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 佳能株式会社 |
| 发明人： | 向出大平;高田一广;渡边壮俊 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-03-11T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200980108149.9 |
| 公开号： | CN101960298A |
| 代理机构： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
| 代理人： | 康建忠 |
| 分类号： | G01N23/04(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 主权项： | 一种X射线成像装置，包括：X射线产生单元，用于产生X射线；X射线分割元件，用于空间分割从X射线产生单元发射的X射线；检测器，用于检测由X射线分割元件分割的并透过被检体的X射线；和计算单元，用于从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线偏移量和被检体的X射线透射率，并进一步从由X射线偏移量确定的ρet(ρe：电子密度，t：被检体的厚度)和由X射线透射率确定的μt(μ：线性衰减系数)计算确定被检体的有效原子序数。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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