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原文传递吸附机构、清洗装置、化学发光检测仪及清洗方法

专利名称：	吸附机构、清洗装置、化学发光检测仪及清洗方法
摘要：	本发明涉及一种磁珠复合物吸附机构，用于吸附绕中心轴线公转的反应杯中的磁珠复合物，该磁珠复合物吸附机构设置有供所述反应杯进出的输入工位和主输出工位，该磁珠复合物吸附机构包括底座及固定在所述底座上的多个侧吸组件，该多个侧吸组件环绕所述中心轴线设置且位于所述输入工位和主输出工位之间；相邻两个所述侧吸组件相互间隔形成供所述反应杯运行的通道；其中，当所述反应杯公转时，多个所述侧吸组件使得所述磁珠复合物交替吸附在所述反应杯相对设置的第一内侧面和第二内侧面上。清洗液对在第一内侧面和第二内侧面之间来回泳动的磁珠复合物进行全方位清洗，因此，在提高清洗效果的基础上保证了测试结构的准确性。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	深圳市新产业生物医学工程股份有限公司
发明人：	尹力;朱亮;张谭;班定平;易万贯;陈为;胡毅
专利状态：	有效
申请日期：	2018-01-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-02T00:00:00+0800
申请号：	CN201810073746.3
公开号：	CN110082548A
代理机构：	广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人：	石佩
分类号：	G01N35/04(2006.01);G;G01;G01N;G01N35
申请人地址：	518052 广东省深圳市坪山区坑梓街道金沙社区金辉路16号
主权项：	1.一种磁珠复合物吸附机构，用于吸附绕中心轴线公转的反应杯中的磁珠复合物，其特征在于，所述磁珠复合物吸附机构设置有供所述反应杯进出的输入工位和主输出工位，所述磁珠复合物吸附机构包括底座及固定在所述底座上的多个侧吸组件，所述多个侧吸组件环绕所述中心轴线设置且位于所述输入工位和主输出工位之间；相邻两个所述侧吸组件相互间隔形成供所述反应杯运行的通道；其中，当所述反应杯公转时，多个所述侧吸组件使得所述磁珠复合物交替吸附在所述反应杯相对设置的第一内侧面和第二内侧面上。 2.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述多个侧吸组件交替设置于所述反应杯的公转轨迹的内侧和外侧，所述多个侧吸组件的磁吸面朝向所述反应杯的公转轨迹，相邻两个侧吸组件沿所述反应杯的公转轨迹的周向相互间隔。 3.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，每一所述侧吸组件包括沿所述反应杯公转轨迹方向排布的第一对磁铁和第二对磁铁，所述第二对磁铁位于每一所述侧吸组件沿所述反应杯公转轨迹方向的尾部，所述第一对磁铁的磁吸面积大于所述第二对磁铁的磁吸面积，使得吸附在所述反应杯的第一内侧面或第二内侧面的磁珠复合物包括对应的第一聚拢状态和第二聚拢状态，所述第一聚拢状态的紧密程度小于所述第二聚拢状态的紧密程度。 4.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，靠近所述主输出工位的侧吸组件包括第一对磁铁、第二对磁铁和第三对磁铁，所述第三对磁铁位于所述侧吸组件沿所述反应杯公转轨迹方向的尾部，所述第一对磁铁、第二对磁铁和第三对磁铁的磁吸面积依次缩小，使得吸附在所述反应杯的第一内侧面或第二内侧面的磁珠复合物包括对应的第一聚拢状态、第二聚拢状态和第三聚拢状态，所述第一聚拢状态、第二聚拢状态和第三聚拢状态的紧密程度依次减少。 5.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，沿所述反应杯公转方向，多个所述侧吸组件使得所述磁珠复合物在所述反应杯内侧面的吸附位置逐渐靠近挨近所述反应杯底部面的距离。 6.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述多个侧吸组件沿所述反应杯转动方向依次首尾相对设置，所述侧吸组件包括带有与所述中心轴线同轴的圆弧形安装面的安装体，及设置在所述圆弧形安装面上并与所述反应杯相对的若干磁性体；分布在所述输入工位与主输出工位之间的任意相邻两个所述侧吸组件的圆弧形安装面位于所述反应杯运动轨迹的异侧、并相对所述中心轴线的朝向相反。 7.根据权利要求6所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，包括四个侧吸组件，所述四个侧吸组件包括沿所述反应杯转动方向依次首尾相对设置的第一侧吸组件、第二侧吸组件、第三侧吸组件和第四侧吸组件，所述第一侧吸组件上靠近所述第四侧吸组件的一端与所述输入工位对应，所述第四侧吸组件上靠近所述第一侧吸组件的一端与所述主输出工位对应，所述第一侧吸组件上的所述圆弧形安装面面对所述中心轴线。 8.根据权利要求6所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，任意不相邻的两个所述侧吸组件上的所述圆弧形安装面到所述中心轴线的距离相等。 9.根据权利要求6所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述安装体包括固定座和插装板；所述固定座上设置有沿所述圆弧形安装面的周向延伸的第一安装槽，所述圆弧形安装面上开设有与所述第一安装槽连通的若干安装孔，所述插装板与所述第一安装槽配合，所述磁性体容置在所述安装孔中且其端部与所述插装板连接。 10.根据权利要求9所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述固定座上与所述圆弧形安装面相对的一面上开设有与所述第一安装槽连通的第二安装槽，所述插装板上设置有与所述第二安装槽配合的限位凸条，所述限位凸条与所述固定座螺栓连接。 11.根据权利要求9所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，还包括如下中的任意一个：同一所述侧吸组件上的若干所述安装孔到所述底座的距离相等或不相等；不同所述侧吸组件上的若干所述安装孔相对所述底座的距离不相等。 12.根据权利要求9所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述安装孔包括与所述反应杯转入方向对应的若干个第一通孔，及与所述反应杯转出方向对应的若干个第三通孔；所述磁性体包括位于所述第一通孔中的第一磁铁，及位于所述第三通孔中的第三磁铁；其中：任意一对所述第一通孔中的两个所述第一磁铁之间的磁吸面积为D1，任意一对所述第三通孔中的两个所述第三磁铁之间的磁吸面积为D3，D1＞D3。 13.根据权利要求12所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述安装孔还包括位于所述第一通孔和所述第三通孔之间的若干对第二通孔，所述磁性体还包括位于所述第二通孔中的第二磁铁；其中：任意一对所述第二通孔中的两个所述第二磁铁之间的磁吸面积为D2，D1＞D2＞D3。 14.根据权利要求13所述的磁珠吸附机构，其特征在于，在所述第一侧吸组件中、第二侧吸组件和第三侧吸组件中，所述第一通孔的数量均为三对，所述第三通孔的数量均为两对；在所述第四侧吸组件中，所述第一通孔的数量为一对，所述第二通孔的数量为三对，所述第三通孔的数量为三对。 15.根据权利要求13所述的磁珠吸附机构，其特征在于，在所述第一侧吸组件中、第二侧吸组件和第三侧吸组件中，所述第一通孔的数量均为三个，所述第二通孔的数量均为两对，所述第三通孔的数量均为三对；在所述第四侧吸组件中，所述第一通孔的数量为一对，所述第二通孔的数量为三对，所述第三通孔的数量均三对。 16.根据权利要求13所述的磁珠吸附机构，其特征在于，在所述第一侧吸组件中，所述第一通孔的数量为一个，所述第二通孔的数量为一对，所述第三通孔的数量为六对；在所述第二侧吸组件和第三侧吸组件中，所述第二通孔的数量均为两对，所述第三通孔的数量均为六对；在所述第四侧吸组件中，所述所述第一通孔的数量为三个，所述第二通孔的数量为三对，所述第三通孔的数量为两对。 17.根据权利要求9所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述安装孔的截面形状为圆弧、半圆弧或优弧。 18.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，还包括固定在所述底座上、并环绕所述中心轴线且沿所述反应杯转动方向依次首尾相对设置的多个圆弧形定位块，所述圆弧形定位块与所述侧吸组件一一对应；其中：相互对应的所述圆弧形定位块与所述侧吸组件分居所述反应杯运动轨迹的异侧、并围设成供所述反应杯运行的通道。 19.根据权利要求1所述的磁珠复合物吸附机构，其特征在于，所述底座包括垫板，与所述垫板相对设置的底板，及连接在所述垫板与所述底板之间的支撑柱；所述侧吸组件固定在所述底板上。 20.一种清洗装置，其特征在于，包括如权利要求1至19中任一项所述的磁珠复合物吸附机构。 21.根据权利要求20所述的清洗装置，其特征在于，还包括与所述底座转动连接并用于承载所述反应杯的转盘，及安装在所述底座上的主清洗机构和副清洗机构，所述转盘与所述磁珠复合物吸附机构相对设置。 22.根据权利要求21所述的清洗装置，其特征在于，所述副清洗机构与所述主输出工位对应，所述主清洗机构环绕所述侧吸组件设置并位于所述副清洗机构与所述输入工位之间，所述主清洗机构与所述侧吸组件的端部对应。 23.根据权利要求21所述的清洗装置，其特征在于，所述主清洗机构包括固定在所述底座上的第一安装架，与所述第一安装架滑动配合的第一支撑架，与所述第一安装架连接并驱动所述第一支撑架往复滑动的第一驱动组件，设置在所述第一安装架和所述第一支撑架上并用于支撑注液管和抽液管的管夹，及安装在所述第一支撑架上并与所述反应杯对应的若干个主清洗组件。 24.根据权利要求23所述的清洗装置，其特征在于，所述主清洗组件包括固定在所述第一支撑架上的针套，与所述针套转动连接的针座，穿设在所述针座中并与所述注液管连接的注液针，及穿设在所述针座中并与所述抽液管连接且能伸入所述反应杯中的抽液针，所述注液针的输出口贴附在所述抽液针的外壁面上。 25.根据权利要求21所述的清洗装置，其特征在于，所述副清洗机构包括固定在所述底座上的第二安装架，与所述第二安装架滑动配合的第二支撑架，与所述第二安装架连接并驱动所述第二支撑架往复滑动的第二驱动组件，设置在所述第二安装架和所述第二支撑架上并用于支撑抽液管的管夹，及安装在所述第二支撑架上并与所述反应杯对应的副清洗组件。 26.根据权利要求25所述的清洗装置，其特征在于，所述副清洗组件包括固定在所述第二支撑架上的针套，与所述针套转动连接的针座，及穿设在所述针座中并与所述抽液管连接且能伸入所述反应杯中的抽液针。 27.根据权利要求25所述的清洗装置，其特征在于，所述副清洗机构还包括固定在所述底座上并用于清洗所述副清洗组件的清洗槽。 28.根据权利要求25所述的清洗装置，其特征在于，所述第二支撑架包括与所述第二安装架滑动配合的第二滑板，固定在所述第二滑板上的支撑框，与所述支撑框转动连接的转轴，与所述转轴连接并用于安装所述副清洗组件的第二固定板，及驱动所述转轴旋转的第三驱动组件。 29.一种化学发光检测仪，其特征在于，包括权利要求20至28中任一项所述的清洗装置。 30.一种清洗方法，用于清洗反应杯中的磁珠复合物，其特征在于，包括如下步骤：将经过第一次加样后的反应杯从清洗装置的输入工位进入、并围绕清洗装置的转盘的中心轴线公转；主清洗，清洗装置将磁珠复合物多次交替吸附在反应杯的第一内侧面和第二内侧面上，清洗液对在第一内侧面和第二内侧面之间泳动的磁珠复合物进行清洗，清洗装置在所述磁珠复合物每一次泳动之前对反应杯抽废液后重新注入新的清洗液；副清洗，将磁珠复合物吸附在第一内侧面或第二内侧面上接近反应杯底面的位置处、并对反应杯抽废液处理；将第一次公转至所述清洗装置的主输出工位的反应杯输送至测量室。 31.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，使所述清洗装置的输入工位与主输出工位处于同一位置。 32.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，所述主清洗包括如下步骤：第一次清洗，反应杯公转，磁珠复合物脱离第一内侧面而在清洗液中泳动并吸附至第二内侧面上；反应杯停止公转，对反应杯进行抽废液后重新注入新的清洗液；第二次清洗，反应杯沿原方向公转，磁珠复合物脱离第二内侧面而在清洗液中泳动并吸附至第一内侧面上；反应杯停止公转，对反应杯进行抽废液后重新注入新的清洗液；第三次清洗，反应杯沿原方向公转，磁珠复合物脱离第一内侧面而在清洗液中泳动并吸附至第二内侧面上。 33.根据权利要求32所述的清洗方法，其特征在于，在所述第二次清洗步骤到所述第三次清洗步骤之间，逐渐减少磁珠复合物的吸附位置相对反应杯底面的距离。 34.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，当反应杯即将停止公转以抽废液时，逐渐减少磁珠复合物在第一内侧面或第二内侧面上的吸附面积。 35.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，在所述副清洗步骤中，使磁珠复合物的吸附位置相对反应杯底面的距离最近。 36.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤中，当对反应杯抽废液后，将新注入的清洗液对清洗装置上的抽液针进行清洗。 37.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，在所述副清洗步骤中，当对反应杯抽废液后，将清洗装置上的抽液针转移至设置在清洗装置上的清洗槽进行清洗。 38.根据权利要求30所述的清洗方法，其特征在于，在所述副清洗步骤中，对所述反应杯抽废液时，使磁珠复合物在第一内侧面或第二内侧面上的吸附面积最小。
所属类别：	发明专利