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原文传递光电流扫描系统

专利名称：	光电流扫描系统
摘要：	本发明涉及一种光电流扫描系统，包括一激光发生装置、一聚焦装置、一位移调整装置、一偏压供给装置及一测量装置；所述激光发生装置用于发射激光，所述聚焦装置用于将激光聚焦到所述位移调整装置中待测样品表面；所述位移调整装置用于驱动所述待测样品，使激光照射到待测样品表面的不同部位；所述偏压供给装置用于向所述待测样品提供电压；所述测量装置用于测量流过所述待测样品的电流信号。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	清华大学
发明人：	张科;魏洋;范守善
专利状态：	有效
申请日期：	2018-02-07T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-13T00:00:00+0800
申请号：	CN201810123474.3
公开号：	CN110118725A
分类号：	G01N21/01(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
主权项：	1.一种光电流扫描系统，包括一激光发生装置、一聚焦装置、一位移调整装置、一偏压供给装置及一测量装置；所述激光发生装置用于发射激光，所述聚焦装置用于将激光聚焦到所述位移调整装置中待测样品表面；所述位移调整装置用于调整所述待测样品的位置，使激光照射到待测样品表面的不同部位；所述偏压供给装置用于向所述待测样品提供电压；所述测量装置用于测量流过所述待测样品的电流信号。 2.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述聚焦装置包括一物镜，该物镜对激光光束聚焦，使照射到待测样品表面的激光光斑直径为1微米至2微米。 3.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述位移调整装置包括一载物台和一位移台，该位移台固定在所述载物台，所述待测样品设置于所述位移台。 4.如权利要求3所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述载物台用于对所述待测样品的位置进行粗调，所述位移台用于对所述待测样品的位置进行微调。 5.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述偏压供给装置和测量装置集成在同一个源表内，该源表用于向所述待测样品提供电压，同时测量所述待测样品的电流。 6.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述偏压供给装置为一源表，用于向所述待测样品提供偏压；所述测量装置包括一电流前置放大器和一锁相放大器，用于测量所述待测样品的电流。 7.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，进一步包括一保护装置，该保护装置包括一收纳盒和一屏蔽筒，所述位移调整装置固定在所述收纳盒内，所述收纳盒用于保护所述位移调整装置和屏蔽外界电磁干扰；所述屏蔽筒设置于所述收纳盒，用于屏蔽所述聚焦装置和收纳盒之间的电磁干扰。 8.如权利要求7所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述收纳盒包括一可拆卸上盖，该上盖具有一通孔；所述屏蔽筒包括一环形片和一套筒，所述环形片设置于所述收纳盒上盖，所述环形片具有一开孔，所述套筒设置于所述环形片。 9.如权利要求8所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述套筒包括第一空心圆柱和第二空心圆柱，该第二空心圆柱的外径小于所述第一空心圆柱的外径，在所述套筒的外表面形成一凸台，所述第二空心圆柱的外径小于所述环形片的开孔直径，所述第一空心圆柱的外径大于所述环形片的开孔直径，所述第二空心圆柱位于所述环形片的开孔内。 10.一种采用权利要求1-9中任一项光电流扫描系统测量光电流的方法，包括以下步骤：所述激光发生装置发射激光；激光通过所述聚焦装置聚焦到待测样品表面；所述偏压供给装置给所述待测样品提供电压；所述位移调整装置调整所述待测样品移动，使激光照射到待测样品表面的不同位置；同时所述测量装置测量所述待测样品的电流信号。
所属类别：	发明专利