专利名称: |
一种高抗拉电解液中走位剂的定量分析方法 |
摘要: |
本发明涉及一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,包括以下步骤:配制仿电解液,配制成检测基体溶液,配制成标准走位剂检测溶液,配制成预混液;将标准走位剂检测溶液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,使用循环伏安法分析记录每次标准走位剂检测溶液加入前后检测基体溶液的伏安特性曲线;再绘制预混液检测曲线图,并根据结果设定检测常数;再绘制样品曲线图,根据已有的标准曲线及检测常数计算样品中走位剂的浓度。本发明的有益效果为:使用电化学方式,通过调整检测基体溶液和检测常数,一定程度消除了样品中光亮剂造成的影响,降低了测量误差,为高抗拉铜箔配方提供了一个有效的监控手段。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江西;36 |
申请人: |
九江德福科技股份有限公司 |
发明人: |
范远朋;黄雨晖 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-04-19T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-08-30T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910315976.0 |
公开号: |
CN110186980A |
代理机构: |
北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
张朝元 |
分类号: |
G01N27/416(2006.01);G;G01;G01N;G01N27 |
申请人地址: |
332000 江西省九江市开发区汽车工业园顺意路15号 |
主权项: |
1.一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、配制仿电解液,仿电解液中包括H2SO4和CuSO4,向所述仿电解液中加入光亮剂配制成检测基体溶液,向所述仿电解液中加入走位剂配制成标准走位剂检测溶液,向所述仿电解液中加入添加剂配制成预混液; S2、将标准走位剂检测溶液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,使用循环伏安法分析记录每次标准走位剂检测溶液加入前后检测基体溶液的伏安特性曲线,分析所得的伏安特性曲线,绘制标准曲线; S3、将预混液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,利用所述步骤2中循环伏安法得到伏安特性曲线,分析伏安特性曲线,绘制预混液检测曲线图,并根据结果设定检测常数; S4、取稀释后的样品,将稀释后的样品间断加入含有检测基体溶液反应槽中,利用所述步骤S2中循环伏安法得到伏安特性曲线,分析伏安特性曲线,根据已有的标准曲线及检测常数计算样品中走位剂的浓度。 2.根据权利要求1所述的一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,其特征在于, 所述步骤S2、所述步骤S3所述步骤S4反应槽中检测基体溶液的体积为50mL。 3.根据权利要求1所述的一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,其特征在于,所述步骤S2标准走位剂检测溶液每次加入体积为0.2-2.0mL,所述步骤S3预混液每次加入体积为0.2-2.0mL,所述步骤S4稀释后的样品每次加入体积为0.2-2.0mL。 4.根据权利要求1所述的一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,其特征在于,所述步骤S2标准走位剂检测溶液每次加入体积为0.5mL,所述步骤S3预混液每次加入体积为0.5mL,所述步骤S4稀释后的样品每次加入体积为0.5mL。 |
所属类别: |
发明专利 |