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薄膜残余应力测量结构及其制作和测试方法
| 专利名称： | 薄膜残余应力测量结构及其制作和测试方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜残余应力测量结构及其制作和测试方法，将任意形状的测试平板 1通过任意形状和位置的支撑锚点2悬置于基底3上，牺牲层4填充在测试平板1和基底3 之间，测试平板1的厚度、支撑锚点2的高度均与待测应力的器件一致。测试时，将待测应 力的器件和薄膜残余应力测量结构6置于腐蚀液7内，当测试平板1的自由端悬置长度δ达 到某一临界值时，其悬置部分将出现瞬间的屈曲变形，记录下该时刻的δ值以及屈曲变形模 态，以此分析计算得到测试平板1中的残余应力大小及其状态。本发明极大地节省了器件版 图空间，提 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 西北工业大学 |
| 发明人： | 苑伟政;虞益挺;乔大勇;梁 庆 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2007-01-12T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200710017231.3 |
| 公开号： | CN101051018 |
| 分类号： | G01N13/00(2006.01)I |
| 申请人地址： | 710072陕西省西安市友谊西路127号 |
| 主权项： | 1、薄膜残余应力测量结构，包括一个测试平板1、一个支撑锚点2和牺牲层4，其特征 在于：测试平板1通过支撑锚点2悬置于基底3上，牺牲层4填充在测试平板1和基 底3之间；支撑锚点2的位置和形状任意，测试平板1的形状任意，测试平板1的厚 度与待测应力器件的薄膜厚度一致，支撑锚点2的高度与待测应力器件的锚点高度一 致。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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