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原文传递 多孔荧光陶瓷气孔率检测装置及其检测方法
专利名称: 多孔荧光陶瓷气孔率检测装置及其检测方法
摘要: 本发明提供一种多孔荧光陶瓷气孔率检测装置及其检测方法,该检测装置包括测试平台,在测试平台上沿同一中心线顺序设置激光光源(100)、扩束组件、中继透镜(300)、收集透镜组(500)和CCD组件(600),中继透镜(300)和收集透镜组(500)之间设置检测位(400),待测荧光陶瓷和标准荧光陶瓷分别放置在所述检测位上进行检测。本发明根据荧光光斑扩散率与荧光陶瓷中散射中心即气孔率的含量之间的有关,通过检测荧光光斑大小及激光光斑大小的比值可表征其光斑扩散率,将尺寸大小一致的制备的荧光陶瓷样品与标准荧光陶瓷样品进行比对测试,可检测其气孔率是否符合标准,装置结构紧凑,测试方法简单快速,准确率高。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 深圳光峰科技股份有限公司
发明人: 周萌;杜鹏;李屹
专利状态: 有效
申请日期: 2018-03-05T00:00:00+0800
发布日期: 2019-09-13T00:00:00+0800
申请号: CN201810177665.8
公开号: CN110231265A
代理机构: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
代理人: 曹正建;姚鹏
分类号: G01N15/08(2006.01);G;G01;G01N;G01N15
申请人地址: 518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼
主权项: 1.一种多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,包括测试平台,其特征在于,在所述测试平台上沿同一中心线顺序设置激光光源(100)、扩束组件、中继透镜(300)、收集透镜组(500)和CCD组件(600),所述中继透镜(300)和收集透镜组(500)之间设置检测位(400),待测荧光陶瓷和标准荧光陶瓷分别放置在所述检测位上进行检测。 2.如权利要求1所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,其特征在于,所述扩束组件包括:正负透镜组(200)或扩散片。 3.如权利要求1所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,其特征在于,所述扩束组件和中继透镜(300)之间还设有匀光组件; 所述匀光组件包括:方棒(202)或复眼透镜。 4.如权利要求1-3任一项所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,其特征在于,所述CCD组件(600)包括CCD芯片。 5.如权利要求4所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,其特征在于,成像尺寸小于所述CCD芯片有效区的尺寸; 所述成像尺寸是指从所述收集透镜组(500)出射的光斑的尺寸,所述光斑的尺寸<所述CCD芯片有效区的尺寸。 6.如权利要求1所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置,其特征在于,所述中继透镜(300)和检测位(400)之间设有遮光组件,遮蔽至少部分入射光线; 和/或,所述检测位(400)和收集透镜组(500)之间设有遮光组件,遮蔽至少部分出射光线。 7.一种如权利要求1-6任一项所述的多孔荧光陶瓷气孔率检测装置的检测方法,其特征在于,包括如下步骤: 步骤100:将标准的多孔荧光陶瓷放置在所述检测位上,测试标准荧光陶瓷的荧光光斑的大小并记录; 步骤200:将待测的多孔荧光陶瓷放置在所述检测位上,测试标准荧光陶瓷的荧光光斑的大小并记录; 步骤300:将标准荧光陶瓷的荧光光斑的大小和待测荧光陶瓷的荧光光斑的大小进行比对,满足条件时,待测荧光陶瓷中气孔率合格。 8.如权利要求7所述的检测方法,其特征在于,所述步骤300中的条件为:待测陶瓷的荧光光斑与标准陶瓷的荧光光斑大小的比值在1±0.05范围内; 或者,标准荧光陶瓷的光斑和待测荧光陶瓷的光斑相减的差值在±0.05单位面积范围内。 9.如权利要求7所述的检测方法,其特征在于,所述标准的多孔荧光陶瓷的气孔率为3%。 10.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于,所述标准荧光陶瓷和待测荧光陶瓷的大小一致。
所属类别: 发明专利
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