详情

原文传递一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法

专利名称：	一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法
摘要：	本申请提供了一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法，属于座便器制造技术领域。其中，排釉装置包括供气装置、第一进气管和第二进气管。第一进气管与供气装置连接，第一进气管具有用于与冲水口对接密封的对接部。第二进气管与供气装置连接，第二进气管用于与开口对接密封。供气装置被构造成为第一进气管和第二进气管供气。在排釉时，第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封后，供气装置向第一进气管提供的气体将直接进入复冲管道，从而提高了复冲管道内的压力，复冲管道内的釉料更多地被排出，减少了管道积釉量。此外，供气压力无需太大就能够实现对积釉的排出，流速不大流量变大，减少对复冲管道积釉液面的喷溅。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	肇庆金马领科智能科技有限公司
发明人：	甘林;廖慨钦;许文杰
专利状态：	有效
申请日期：	2019-07-09T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-20T00:00:00+0800
申请号：	CN201910622504.X
公开号：	CN110253731A
代理机构：	北京超成律师事务所
代理人：	陈治位
分类号：	B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11
申请人地址：	526000 广东省肇庆市肇庆高新区文德四街2号肇庆金马陈列道具有限公司车间
主权项：	1.一种排釉装置，适用于对包括座便本体的座便器的管道排釉，所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口，其特征在于，包括：供气装置；第一进气管，所述第一进气管与所述供气装置连接，所述第一进气管具有用于与所述冲水口对接密封的对接部；以及第二进气管，所述第二进气管与所述供气装置连接，所述第二进气管用于与所述开口对接密封；其中，所述供气装置被构造成为所述第一进气管和所述第二进气管供气。 2.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述对接部为与所述冲水口大小相匹配的对接接头。 3.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述排釉装置还包括机架和第一驱动装置；所述供气装置连接于所述机架；所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述机架竖向移动；所述第一驱动装置驱动所述第一进气管相对所述机架竖向向下移动能够使所述对接部与所述冲水口对接密封。 4.根据权利要求3所述的排釉装置，其特征在于，所述排釉装置还包括活动座和第二驱动装置；所述活动座可移动地设置于所述机架，所述第二驱动装置被构造成驱动所述活动座相对所述机架横向移动；所述第一进气管可移动地设置于所述活动座，所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述活动座竖向移动。 5.根据权利要求4所述的排釉装置，其特征在于，所述活动座为板状件，所述活动座具有相对的第一端和第二端；所述机架上设有相对的且沿横向布置的第一滑槽和第二滑槽，所述第一端可移动地插设于所述第一滑槽，所述第二端可移动地插设于所述第二滑槽内。 6.根据权利要求3所述的排釉装置，其特征在于，所述排釉装置还包括密封装置；所述密封装置连接于所述机架，所述密封装置用于将所述第二进气管与所述开口密封。 7.根据权利要求6所述的排釉装置，其特征在于，所述密封装置包括遮盖件和第三驱动装置；所述第二进气管连接于所述遮盖件，所述第三驱动装置被构造成驱动所述遮盖件相对所述机架竖向移动；所述第三驱动装置驱动所述遮盖件竖向向下移动能够使所述遮盖件遮盖密封于所述开口，以使所述第二进气管与所述座便本体内部连通。 8.根据权利要求3-7任一项所述的排釉装置，其特征在于，所述第一进气管与所述供气装置通过软管连通。 9.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述供气装置包括第一供气单元和第二供气单元；所述第一供气单元被构造成为所述第一进气管供气；所述第二供气单元被构造成为所述第二进气管供气。 10.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述第一进气管上设有第一流量调节装置。 11.根据权利要求10所述的排釉装置，其特征在于，所述第一进气管上设有第一流量检测装置，所述第一流量调节装置响应于所述第一流量检测装置。 12.根据权利要求1或10或11所述的排釉装置，其特征在于，所述第二进气管上设有第二流量调节装置。 13.根据权利要求12所述的排釉装置，其特征在于，所述第二进气管上设有第二流量检测装置，所述第二流量调节装置响应于所述第二流量检测装置。 14.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述排釉装置还包括主管和分流调节装置；所述主管具有进气端和出气端，所述进气端与所述供气装置连接；所述分流调节装置具有进气口、第一出气口和第二出气口，所述出气端连接于所述进气口，所述第一进气管连接于所述第一出气口，所述第二进气管连接于所述第二出气口。 15.根据权利要求1所述的排釉装置，其特征在于，所述座便器还包括与所述座便本体连接的水箱；所述水箱具有进水口和排水口，所述排水口为所述冲水口。 16.一种排釉系统，其特征在于，包括座便器和根据权利要求1-15任一项所述的排釉装置；所述座便器包括座便本体，所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口；所述第一进气管的对接部与所述座便本体的冲水口对接密封；所述第二进气管与所述座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封。 17.一种施釉排釉装置，其特征在于，包括施釉装置、输送装置和根据权利要求1-15任一项所述的排釉装置；所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置输送至排釉装置所在的排釉位置。 18.根据权利要求17所述的施釉排釉装置，其特征在于，所述施釉装置包括：支架；用于与座便器的管道对接的进釉管；活动体，所述活动体可移动地设置于所述支架；第四驱动装置，所述第四驱动装置被构造成驱动所述活动体相对所述支架横向移动；以及第五驱动装置，所述第五驱动装置被构造成驱动所述进釉管相对所述活动体竖向移动；所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置沿纵向输送至排釉装置所在的排釉位置。 19.根据权利要求18所述的施釉排釉装置，其特征在于，所述施釉装置还包括夹套；所述夹套可移动地设置于所述活动体，所述夹套夹于所述进釉管的外侧，所述第五驱动装置被构造成驱动所述夹套相对所述活动体竖向移动。 20.一种施釉排釉系统，其特征在于，包括座便器和根据权利要求17-19任一项所述的施釉排釉装置，所述座便器放置于所述输送装置上。 21.一种排釉方法，其特征在于，包括以下步骤：将第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封；将第二进气管与座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封；供气装置向第一进气管和第二进气管供气。 22.根据权利要求21所述的排釉方法，其特征在于，所述供气装置向第一进气管和第二进气管供气的步骤包括： S1供气装置同时向第一进气管和第二进气管供气； S2停止向第一进气管和第二进气管供气； S3供气装置向第一进气管供气； S4停止向第一进气管供气； S5供气装置向第二进气管供气； S6停止向第二进气管供气。
所属类别：	发明专利