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原文传递确定基底的特性

专利名称：	确定基底的特性
摘要：	描述了一种方法，其中获得从基底反射的激光图案的反射。可以从基底获得漫射光的反射。可以从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数。可以从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数，并且可以从第一和第二参数确定基底的特性。还公开了一种打印装置和机器可读介质。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	惠普发展公司,有限责任合伙企业
发明人：	P·莫罗维奇;J·莫罗维奇;H·戈麦斯米娜诺;M·卡萨尔达利加阿尔比苏;J·J·科尔西克卢纳
专利状态：	有效
申请日期：	2017-04-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-20T00:00:00+0800
申请号：	CN201780083434.4
公开号：	CN110268251A
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	李雪娜;陈岚
分类号：	G01N21/86(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	美国德克萨斯州
主权项：	1.一种方法，包括：从基底获得激光图案的反射；从基底获得漫射光的反射；使用处理器从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数；使用处理器从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数；和使用处理器从第一和第二参数确定基底的特性。 2.根据权利要求1所述的方法，其中第一参数涉及基底的结构性质。 3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一参数包括以下之一：基底厚度；由于在基底的表面的轮廓而引起的反射的激光的散射的量度；基底表面的粗糙度的量度；和制造基底的方法的表面特征特性的量度。 4.根据权利要求1所述的方法，其中第二参数涉及基底的颜色。 5.根据权利要求1所述的方法，包括：使用处理器确定与基底相关联的LAB颜色空间矢量；和使用处理器从LAB颜色空间矢量确定基底的特性。 6.根据权利要求1所述的方法，其中基底的特性包括基底类型。 7.根据权利要求6所述的方法，包括：在质量控制过程中使用所确定的基底类型，所述使用包括：确定基底类型是否与打印作业简档中的基底类型匹配；和响应于确定基底类型与打印作业简档中的基底类型不匹配而执行动作。 8.根据权利要求1所述的方法，包括：使用处理器，使用从机器学习过程生成的模型来确定基底的特性。 9.根据权利要求8所述的方法，其中第一和第二参数是对机器学习过程的输入。 10.根据权利要求1所述的方法，包括：从反射的激光图案检测基底中的歪斜、折痕或皱褶；和响应于检测到歪斜、折痕或皱褶而执行动作。 11.根据权利要求1所述的方法，包括：将打印剂施加到基底的表面；从反射的漫射光确定所施加的打印剂的颜色；比较所施加的打印剂的颜色与参考颜色；和如果所施加的打印剂的颜色不在参考颜色的容差内，则执行动作。 12.根据权利要求11所述的方法，其中比较所施加的打印剂的颜色包括：使用处理器计算色差度量；和其中执行动作包括：如果色差度量大于阈值，则暂停打印作业。 13.根据权利要求11所述的方法，包括：检测所施加的打印剂中的缺陷区域；和响应于确定缺陷区域而执行动作。 14.一种打印装置，包括：激光源，用于将激光引导到可打印介质上；漫射光源，用于将漫射光引导到可打印介质上；图像捕获设备，用于检测：i)从可打印介质反射的激光，和ii)从可打印介质反射的漫射光；和处理电路，用于：从反射的激光确定与可打印介质相关的第一参数；从反射的漫射光确定与可打印介质相关的第二参数；和使用第一和第二参数确定可打印介质的特性。 15.一种机器可读介质，其包括指令，所述指令当由处理器执行时，使得处理器：获得与从可打印基底的激光的反射相关的第一图像数据；获得与从可打印基底的漫射光的反射相关的第二图像数据；从第一图像数据确定与可打印基底相关的第一参数；从第二图像数据确定与可打印基底相关的第二参数；和使用第一和第二参数确定可打印基底的特性。
所属类别：	发明专利