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原文传递 工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法
专利名称: 工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法
摘要: 本发明提供一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法,步骤为:步骤一,试样经线切割后,分别使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸研磨;步骤二,使用尼龙布对研磨后的试样进行抛光,抛光膏为纳米二氧化硅颗粒;步骤三,抛光后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀;步骤四,重复步骤二至三3~5次,将试样抛光至镜面;步骤五,使用丝绒抛光布清洁试样表面,脱去水分;步骤六,将试样置于腐蚀溶液中浸蚀随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水,在显微镜下观察金相组织。本发明的有益效果是:可以快速将试样抛光至镜面且不产生低应变孪晶及表面划痕,显著缩短抛光制样时间;试样金相组织显示清晰。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 天津;12
申请人: 天津钢管制造有限公司
发明人: 魏刚;黄进;陈燕;扈立;侯强;甄晓川;李志群;郑飞
专利状态: 有效
申请日期: 2019-06-14T00:00:00+0800
发布日期: 2019-09-13T00:00:00+0800
申请号: CN201910516457.0
公开号: CN110231205A
代理机构: 天津才智专利商标代理有限公司
代理人: 吕志英
分类号: G01N1/32(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址: 300301 天津市东丽区津塘公路396号
主权项: 1.一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法,其特征是:该方法按以下步骤进行: 步骤一,试样经线切割后放置抛光机上,依次使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒; 步骤二,使用斜纹尼龙布对步骤一研磨后的试样进行抛光,抛光膏为纳米二氧化硅颗粒,抛光机转速为1000~1500转/分; 步骤三,根据步骤二抛光2~3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2~5秒; 步骤四,重复步骤二至四3~5次,将试样抛光至镜面; 步骤五,对步骤四的试样使用丝绒抛光布清洁试样表面,脱去水分; 步骤六,结果:将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2~5秒后随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水,然后在显微镜下观察金相组织,试样表面无划痕且组织显示清晰。 2.根据权利要求1所述的一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法,其特征在于:步骤一中所述试样待检验截面面积为100~200mm2。 3.根据权利要求1所述的一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法,其特征在于:步骤一中所述抛光机研磨转速为500~700转/分。 4.根据权利要求1所述的一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法,其特征在于:步骤二、四中所述腐蚀溶液由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml配比混合而成。
所属类别: 发明专利
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