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原文传递光学发射光谱仪的校准器

专利名称：	光学发射光谱仪的校准器
摘要：	提供了一种光学发射光谱仪(OES)的校准器。该OES的校准器可以包括盖、参考光源和控制器。盖可以与等离子体处理设备的等离子体腔室的顶板可拆卸地结合。参考光源可以安装在盖处，以通过等离子体腔室的内部空间向OES照射参考光。控制器可以将入射到OES的参考光的光谱与在等离子体腔室中的等离子体处理期间输入到OES的实际光的光谱进行比较以校准OES。因此，可以在不从等离子体室拆卸OES的情况下校准OES，以减少用于校准OES的时间。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	韩国;KR
申请人：	三星电子株式会社
发明人：	文丁一;李衡周;宣钟宇;具滋明;黄载雄;安宗焕
专利状态：	有效
申请日期：	2019-03-04T00:00:00+0800
发布日期：	2019-10-11T00:00:00+0800
申请号：	CN201910160116.4
公开号：	CN110320183A
代理机构：	北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人：	尹淑梅;刘美华
分类号：	G01N21/63(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	韩国京畿道水原市
主权项：	1.一种光学发射光谱仪的校准器，所述校准器包括：盖，被配置为与等离子体腔室的顶板可拆卸地结合；参考光源，位于盖处，参考光源被配置为通过等离子体腔室向光学发射光谱仪照射参考光；以及控制器，被配置为通过将入射到光学发射光谱仪的参考光的光谱与在等离子体腔室中执行的等离子体处理期间入射到光学发射光谱仪的实际光的光谱进行比较，来校准光学发射光谱仪。 2.根据权利要求1所述的校准器，其中，参考光源位于盖的外表面上以定位在等离子体腔室的外部。 3.根据权利要求2所述的校准器，所述校准器还包括：镜子，位于盖下方，镜子相对于竖直方向倾斜，镜子被配置为将在竖直方向上入射到等离子体腔室的参考光朝向等离子体腔室的侧壁处的视口反射。 4.根据权利要求3所述的校准器，其中，镜子包括：上端，高于等离子体腔室中的静电卡盘定位；以及下端，低于静电卡盘定位。 5.根据权利要求3所述的校准器，所述校准器还包括：漫射器，被配置为使已经反射的参考光漫射。 6.根据权利要求5所述的校准器，所述校准器还包括：准直器，被配置为沿水平方向引导由漫射器漫射的参考光。 7.根据权利要求5所述的校准器，所述校准器还包括：透镜，被配置为聚集由漫射器漫射的参考光。 8.根据权利要求1所述的校准器，其中，盖包括至少两个第一销孔，所述至少两个第一销孔被配置为容纳安装在等离子体腔室的上端处的至少两个销。 9.根据权利要求1所述的校准器，其中，所述至少两个第一销孔共线并且位于盖的直径上。 10.根据权利要求9所述的校准器，其中，盖还包括位于所述至少两个第一销孔内侧的至少两个第二销孔，所述至少两个第二销孔共线并且位于盖的直径上。 11.根据权利要求1所述的校准器，其中，盖的面上的颜色是黑色的，盖被配置为在等离子体腔室中形成暗室。 12.根据权利要求1所述的校准器，其中，参考光源位于盖的内表面上，以定位在等离子体腔室的内部。 13.一种光学发射光谱仪的校准器，所述校准器包括：盖，被配置为与等离子体腔室的顶板附接和拆卸；参考光源，位于盖处，参考光源被配置为通过等离子体腔室向光学发射光谱仪照射参考光；镜子，位于盖下方，镜子相对于竖直方向倾斜，镜子被配置为将在竖直方向上入射到等离子体腔室的参考光朝向视口反射，视口处于等离子体腔室的侧壁处；漫射器，被配置为使从镜子反射的参考光漫射；准直器，被配置为沿水平方向引导由漫射器漫射的参考光；以及控制器，被配置为通过将穿过准直器入射到光学发射光谱仪的参考光的光谱与在等离子体腔室中执行的等离子体处理期间入射到光学发射光谱仪的实际光的光谱进行比较，来校准光学发射光谱仪。 14.根据权利要求13所述的校准器，其中，镜子包括：上端，被配置为高于等离子体腔室中的静电卡盘定位；以及下端，被配置为低于静电卡盘定位。 15.根据权利要求13所述的校准器，其中，盖包括至少两个第一销孔，所述至少两个第一销孔被配置为容纳至少两个销，所述至少两个销安装在等离子体腔室的上端处。 16.根据权利要求15所述的校准器，其中，所述至少两个第一销孔共线并且位于盖的直径上。 17.一种光学发射光谱仪的校准器，所述校准器包括：盖，被配置为与等离子体腔室的顶板拆卸和附接；参考光源，位于盖处，参考光源被配置为通过等离子体腔室向光学发射光谱仪照射参考光；镜子，位于盖下方，镜子相对于竖直方向倾斜，镜子被配置为将在竖直方向上入射到等离子体腔室的参考光朝向位于等离子体腔室的侧壁处的视口反射；漫射器，被配置为使从镜子反射的参考光朝向视口漫射；透镜，被配置为聚集由漫射器漫射的参考光；以及控制器，被配置为通过将穿过透镜入射到光学发射光谱仪的参考光的光谱与在等离子体腔室中执行的等离子体处理期间入射到光学发射光谱仪的实际光的光谱进行比较，来校准光学发射光谱仪。 18.根据权利要求17所述的校准器，其中，镜子包括：上端，被配置为高于等离子体腔室中的静电卡盘；以及下端，被配置为低于静电卡盘。 19.根据权利要求17所述的校准器，其中，盖包括至少两个第一销孔，所述至少两个第一销孔被配置为容纳至少两个销，所述至少两个销安装在等离子体腔室的上端处。 20.根据权利要求19所述的校准器，其中，所述至少两个第一销孔共线并且位于盖的直径上。
所属类别：	发明专利