专利名称: |
一种上釉均匀的陶瓷上釉装置 |
摘要: |
本实用新型涉及陶瓷加工技术领域,且公开了一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,包括工作台、外喷机构、内喷机构和固定机构,所述工作台的顶部一侧连接有支撑罩,所述外喷机构设置在支撑罩的一侧,所述内喷机构设置在工作台的中央,所述固定机构设置在内喷机构的正上方,所述外喷机构包括釉浆桶、第一增压泵、软管、金属分流管、喷头一、阀门和调节支架,所述第一增压泵的进水口与油桨桶的排水口连接。本实用新型采用在支撑台上安装金属喷管,在支撑罩上安装固定机构,将待上釉的陶瓷倒扣在金属喷管上,然后电动推杆推动固定板下降将陶瓷固定,并且在支撑台上安装收浆槽,接住外壁喷釉流下的釉浆,打开第二增压泵,即可对陶瓷的内壁进行喷釉。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
江西;36 |
申请人: |
景德镇学院 |
发明人: |
廖志英 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-10-25T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-18T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201821731226.9 |
公开号: |
CN209504454U |
代理机构: |
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
陈娟 |
分类号: |
B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11 |
申请人地址: |
333000 江西省景德镇市昌江区瓷都大道838号 |
主权项: |
1.一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,包括工作台(1)、外喷机构(2)、内喷机构(3)和固定机构(4),所述工作台(1)的顶部一侧连接有支撑罩(5),所述外喷机构(2)设置在支撑罩(5)的一侧,所述内喷机构(3)设置在工作台(1)的中央,所述固定机构(4)设置在内喷机构(3)的正上方,其特征在于:所述外喷机构(2)包括釉浆桶(21)、第一增压泵(22)、软管(23)、金属分流管(24)、喷头一(25)、阀门(26)和调节支架(27),所述第一增压泵(22)的进水口与釉浆桶(21)的排水口连接,所述第一增压泵(22)远离釉浆桶(21)的排水口的一侧与软管(23)的一端连接,所述软管(23)远离第一增压泵(22)的一端与金属分流管(24)的一端连接,所述喷头一(25)连接在金属分流管(24)远离软管(23)的一端,所述阀门(26)设置在金属分流管(24)的一侧; 所述内喷机构(3)包括支撑台(31)、电机(32)、金属喷管(33)、输浆管(34)、收浆槽(35)和第二增压泵(36),所述支撑台(31)的底部与电机(32)的输出轴的顶部连接,所述金属喷管(33)的底部与输浆管(34)的顶部连接,所述输浆管(34)远离金属喷管(33)的一端延伸至收浆槽(35)内,所述收浆槽(35)设置在支撑台(31)的顶部四周,第二增压泵(36)连接在输浆管(34)远离金属喷管(33)的一侧; 所述固定机构(4)包括电动推杆(41)、连接块(43)、转筒(44)、橡胶垫(45)和固定板(42),所述连接块(43)的顶部与电动推杆(41)的底部连接,连接块(43)的底部卡接在转筒(44)内,固定板(42)的顶部与转筒(44)的底部连接,橡胶垫(45)的顶部与固定板(42)的底部粘接。 2.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述调节支架(27)包括T形滑块(271)、支撑架(272)、螺纹套管(273)和T形滑槽(274),所述T形滑块(271)连接在支撑架(272)的顶部,所述T形滑槽(274)开设在支撑罩(5)的顶部一侧,所述支撑架(272)的底部连接在金属分流管(24)的一侧,所述螺纹套管(273)与支撑架(272)的顶部外表面螺纹连接。 3.根据权利要求2所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述T形滑槽(274)的宽度为螺纹套管(273)的外径的二分之一。 4.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述金属喷管(33)的顶部为弧形,且金属喷管(33)的外表面均匀分布有喷头二。 5.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述金属喷管(33)的底部固定在支撑台(31)的顶部正中央,电动推杆(41)位于金属喷管(33)的正上方。 6.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述支撑台(31)内开设有空腔,第二增压泵(36)位于支撑台(31)内的空腔内,输浆管(34)贯穿支撑台(31)内的空腔。 7.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述连接块(43)的底部为圆弧形,转筒(44)的底部内壁开设有与连接块(43)的底部相适配的弧形槽。 |
所属类别: |
实用新型 |