专利名称: |
一种陶瓷可调节均匀上釉设备 |
摘要: |
本发明公开了一种陶瓷可调节均匀上釉设备,涉及陶瓷工艺技术领域,包括:外壳,外壳的侧面固定设置有竖版,竖版上开设有滑槽,竖版上设置有两个电动伸缩杆,其中一个电动伸缩杆一端固定连接外壳,另一端旋转连接第一套筒的侧面,另一个电动伸缩杆的一端移动设置在滑槽内,另一端旋转连接第二套筒的侧面;第二套筒与第一套筒的外侧中部均固定设置有第一齿轮,第二套筒与第一套筒的侧面均开设有匹配陶瓷形状的凹槽,其中一个电动伸缩杆的下端设置有第二电机,第二电机的输出端固定连接第二齿轮,第二齿轮与第一齿轮啮合连接:解决了陶瓷表面可能存在凸起问题,会影响上釉层与陶瓷基体的结合力,导致上釉后的陶瓷易脱落的问题。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江西;36 |
申请人: |
高安常莹新型材料有限公司 |
发明人: |
全春辉;黎军 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2023-09-20T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2023-11-28T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202311215132.1 |
公开号: |
CN117124443A |
代理机构: |
广东省中源正拓专利代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
郭乐 |
分类号: |
B28B11/04;B24B9/06;B;B28;B24;B28B;B24B;B28B11;B24B9;B28B11/04;B24B9/06 |
申请人地址: |
336000 江西省宜春市高安市八景镇(江西省建筑陶瓷产业基地) |
主权项: |
1.一种陶瓷可调节均匀上釉设备,包括:外壳(1),其特征在于, 外壳(1)的侧面固定设置有竖版(3),竖版(3)上开设有滑槽,竖版(3)上设置有两个电动伸缩杆(16),其中一个电动伸缩杆(16)一端固定连接外壳(1),另一端旋转连接第一套筒(17)的侧面,另一个电动伸缩杆(16)的一端移动设置在滑槽内,另一端旋转连接第二套筒(18)的侧面; 第二套筒(18)与第一套筒(17)的外侧中部均固定设置有第一齿轮(19),第二套筒(18)与第一套筒(17)的侧面均开设有匹配陶瓷形状的凹槽,其中一个电动伸缩杆(16)的下端设置有第二电机(21),第二电机(21)的输出端固定连接第二齿轮(22),第二齿轮(22)与第一齿轮(19)啮合连接; 外壳(1)的后方固定设置有釉液池(4),釉液池(4)的侧面且靠近底部的位置固定连接有驱动装置,驱动装置的输出端贯穿釉液池(4)的一侧且固定连接转轴(25),转轴(25)的外表面固定设置有螺旋叶片,外壳(1)的内壁固定设置有抽液泵(23),抽液泵(23)上端连通出液管(24)。 2.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,竖版(3)的侧面开设有水平方向的滑槽,两个电动伸缩杆(16)设置在竖版(3)靠近外壳(1)的面。 3.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,第一套筒(17)在凹槽的两侧开设有三角形固定槽,第二套筒(18)在凹槽的两侧固定设置有三角形内嵌块。 4.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,与第一套筒(17)相连的电动伸缩杆(16)的下端固定连接有第二保护壳(20),第二电机(21)固定设置在第二保护壳(20)的内部,第二电机(21)的输出端贯穿第二保护壳(20)的底部且固定连接第二齿轮(22)。 5.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,转轴(25)远离驱动装置的一端转动设置有衔接块(26),衔接块(26)固定连接在外壳(1)的内壁。 6.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,外壳(1)的下端固定设置有第一保护壳(2),第一保护壳(2)的内部固定设置有第一电机(5),第一电机(5)的输出轴贯穿第一保护壳(2)的顶部且与外壳(1)的底部固定连接。 7.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,外壳(1)的内部顶端固定连接有上固定块(6),上固定块(6)下端转动设置有丝杆(7),丝杆(7)上螺纹连接有滑块(8),丝杆(7)的下端转动设置有下固定块(9),下固定块(9)的下端固定连接外壳(1)的内部底端。 8.根据权利要求7所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,滑块(8)的侧面固定连接有连接柱(10),连接柱(10)贯穿外壳(1)的一侧且固定连接L形支撑板(11)。 9.根据权利要求8所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,L形支撑板(11)远离连接柱(10)的面固定连接有连接片(13),连接片(13)的上端中部位置固定设置有气缸(14),气缸(14)的输出端贯穿连接片(13)且固定连接横板,横板的下端对称固定连接有支柱,支柱的底部固定连接有橡胶垫块(15)。 10.根据权利要求9所述的一种陶瓷可调节均匀上釉设备,其特征在于,L形支撑板(11)对应橡胶垫块(15)的面对称固定设置有限位块(12),限位块(12)的形状与陶瓷的开口部位适配。 |
所属类别: |
发明专利 |