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原文传递 质量分析装置和质量分析方法
专利名称: 质量分析装置和质量分析方法
摘要: 本发明的一个方面所涉及的质量分析装置(200)包括试样台(1)、激光照射部(201)和检测器(203),试样台(1)以如下方式构成:包括载置试样(10)并且设置有从一个面(21a)贯通至另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)和至少覆盖在一个面(21a)上未设置贯通孔(S)的部分的导电层(23)的试样支承体(2)以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式载置,激光照射部(201)以向一个面(21a)上的成像对象区域(R1)照射激光(L)的方式控制激光(L)的照射,检测器(203)在维持成像对象区域(R1)上的试样(10)的位置关系的状态下对通过激光(L)的照射而离子化的试样(10)进行检测。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 日本;JP
申请人: 浜松光子学株式会社
发明人: 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸
专利状态: 有效
申请日期: 2018-03-01T00:00:00+0800
发布日期: 2019-10-25T00:00:00+0800
申请号: CN201880016091.4
公开号: CN110383056A
代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人: 杨琦
分类号: G01N27/62(2006.01);G;G01;G01N;G01N27
申请人地址: 日本静冈县
主权项: 1.一种质量分析装置,其特征在于, 包括: 试样台,其被构成为,包括载置作为成像质量分析的对象的薄膜状的试样并且设置有从一个面贯通至另一个面的多个贯通孔的基板、及由导电性材料构成并至少覆盖在所述一个面上未设置所述贯通孔的部分的导电层的试样支承体以所述另一个面与所述试样相对的方式被载置; 激光照射部,其以向所述一个面上的所述成像对象区域照射激光的方式控制所述激光的照射,所述成像对象区域是作为用于利用毛细管现象使所述试样从所述另一个面向所述一个面移动的区域而发挥作用的所述试样支承体的实效区域的一部分或全部,并且是从所述基板的厚度方向看与所述试样重叠的区域;和 检测部,在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下对通过所述激光的照射而离子化的所述试样进行检测。 2.一种质量分析装置,其特征在于, 包括: 试样台,其被构成为,包括载置作为成像质量分析的对象的薄膜状的试样并且由导电性材料构成且设置有从一个面贯通至另一个面的多个贯通孔的基板的试样支承体以所述另一个面与所述试样相对的方式被载置; 激光照射部,其以向所述一个面上的所述成像对象区域照射激光的方式控制所述激光的照射,所述成像对象区域是作为用于利用毛细管现象使所述试样从所述另一个面向所述一个面移动的区域而发挥作用的所述试样支承体的实效区域的一部分或全部,并且是从所述基板的厚度方向看与所述试样重叠的区域;和 检测部,在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下对通过所述激光的照射而离子化的所述试样进行检测。 3.如权利要求1或2所述的质量分析装置,其特征在于, 还包括:成像光学系统,其在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下,使所述离子化的所述试样成像于所述检测部。 4.如权利要求3所述的质量分析装置,其特征在于, 所述成像光学系统为静电透镜。 5.一种质量分析方法,其特征在于, 包括: 第1工序,准备试样支承体,所述试样支承体包括设置有从一个面贯通至另一个面的多个贯通孔的基板和由导电性材料构成且至少覆盖所述一个面的导电层; 第2工序,作为成像质量分析的对象的薄膜状的试样被载置于试样台,并且以所述另一个面与所述试样相对的方式所述试样支承体被配置在所述试样上; 第3工序,通过向所述一个面上的所述成像对象区域照射激光,从而利用毛细管现象从所述另一个面侧经由所述贯通孔向所述一个面侧移动的所述试样被离子化,所述成像对象区域是作为用于利用毛细管现象使所述试样从所述另一个面向所述一个面移动的区域而发挥作用的所述试样支承体的实效区域的一部分或全部,并且是从所述基板的厚度方向看与所述试样重叠的区域;和 第4工序,在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下检测在所述第3工序中被离子化的所述试样。 6.一种质量分析方法,其特征在于, 包括: 第1工序,准备试样支承体,所述试样支承体包括由导电性材料构成且设置有从一个面贯通至另一个面的多个贯通孔的基板; 第2工序,作为成像质量分析的对象的薄膜状的试样被载置于试样台,并且以所述另一个面与所述试样相对的方式所述试样支承体被配置在所述试样上; 第3工序,通过向所述一个面上的所述成像对象区域照射激光,从而利用毛细管现象从所述另一个面侧经由所述贯通孔向所述一个面侧移动的所述试样被离子化,所述成像对象区域是作为用于利用毛细管现象使所述试样从所述另一个面向所述一个面移动的区域而发挥作用的所述试样支承体的实效区域的一部分或全部,并且是从所述基板的厚度方向看与所述试样重叠的区域;和 第4工序,在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下检测在所述第3工序中离子化的所述试样。 7.如权利要求5或6所述的质量分析方法,其特征在于, 在所述第4工序中,成像光学系统在维持所述成像对象区域上的所述试样的位置关系的状态下,使所述离子化的所述试样成像于检测部。 8.如权利要求7所述的质量分析方法,其特征在于, 所述成像光学系统为静电透镜。
所属类别: 发明专利
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