专利名称: |
一种基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置 |
摘要: |
本实用新型提出了一种基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,包括基座,所述基座带有一平直放置面,所述基座远离该放置面的一侧上设有用于容纳待测液体的凹槽;所述凹槽内覆盖有金属薄膜;所述凹槽的两端分别固定设置有一单模光纤以及一多模光纤;所述凹槽的两端还分别设有用于将所述单模光纤及多模光纤密封设置在所述凹槽内的挡片;单模光纤出射宽谱光至液体中,在液体中传输并发生表面等离子体共振后,凹槽另外一端的多模光纤收光,并送至光谱仪处理,光谱仪处理得出的宽谱光共振谷的不同波长对应不同折射率待测液体,可以简单精密测出折射率高于凹槽基质折射率的待测液体折射率值。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
重庆;50 |
申请人: |
重庆三峡学院 |
发明人: |
许刚;邹凤 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-03-05T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-25T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201920277948.X |
公开号: |
CN209542450U |
代理机构: |
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
刘敏 |
分类号: |
G01N21/552(2014.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
404000 重庆市万州区天星路666号 |
主权项: |
1.一种基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,包括基座,所述基座带有一平直放置面,所述基座远离该放置面的一侧上设有用于容纳待测液体的凹槽; 所述凹槽内覆盖有金属薄膜;所述凹槽的两端分别固定设置有一单模光纤以及一多模光纤;所述凹槽的两端还分别设有用于将所述单模光纤及多模光纤密封设置在所述凹槽内的挡片。 2.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述凹槽的延伸方向为第一方向,第一平面为垂直于所述第一方向的平直面;所述凹槽在所述第一平面的投影为V型、U型或半圆形。 3.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述凹槽两端还包括用于固定所述单模光纤及多模光纤的压片,所述压片与所述基座带有凹槽的一侧固定连接。 4.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述基座呈长方体,长3-5cm,宽1-2cm,高0.2-0.5cm。 5.如权利要求2中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述凹槽深度大于单模光纤或多模光纤的直径。 6.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述金属薄膜为采用等离子溅射镀膜仪镀制的金膜,其厚度为50nm。 7.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述的单模光纤为裸纤,其一端为剥除涂覆层,并用光纤切割刀的平端面,该端伸入凹槽中用于为待测液体传递光线。 8.如权利要求1或7中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述的多模光纤为裸纤,其一端为剥除涂覆层,并用光纤切割刀的平端面,该端伸入凹槽中用于为待测液体传递光线。 9.如权利要求3中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,所述挡片为填充在压片、单模光纤或多模光纤、凹槽所构成的缝隙中的紫外固化胶。 10.如权利要求1中所述的基于表面等离子体共振的高折射率液体测量装置,其特征在于,还包括光谱仪,与多模光纤远离单模光纤的一端相连,用于接收并处理输出光线。 |
所属类别: |
实用新型 |