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原文传递 一种在地下管廊下方施工基坑的方法
专利名称: 一种在地下管廊下方施工基坑的方法
摘要: 本发明公开了一种在地下管廊下方施工基坑的方法,包括以下步骤:S1、在目标基坑区域内,避开地下管廊与目标基坑区域的重叠位置,开挖基坑且在所述基坑的边缘设置围护结构;S2、位于地下管廊与所述基坑的边缘相交的位置,在该位置的地下管廊部分的两侧且位于基坑外侧的区域斜向下构筑加固管桩;S3、在位于S1中所述重叠位置的地下管廊的下方开挖该部分的基坑,并在所述重叠位置两侧的围护结构之间同步设置挡土结构。使用本发明的一种在地下管廊下方施工基坑的方法,不需要迁改地下管廊,既能完成基坑的施工。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 广州地铁设计研究院股份有限公司
发明人: 杜江涛;廖景;涂小华;王丹平;郑石;麦家儿;田清彪
专利状态: 有效
申请日期: 2019-06-27T00:00:00+0800
发布日期: 2019-11-05T00:00:00+0800
申请号: CN201910566760.1
公开号: CN110409453A
代理机构: 广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人: 罗毅萍;卢颂昇
分类号: E02D17/02(2006.01);E;E02;E02D;E02D17
申请人地址: 510010 广东省广州市越秀区环市西路204号
主权项: 1.一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:包括以下步骤: S1、在目标基坑区域内,避开地下管廊与目标基坑区域的重叠位置,开挖基坑且在所述基坑的边缘设置围护结构; S2、位于地下管廊与所述基坑的边缘相交的位置,在该位置的地下管廊部分的两侧且位于基坑外侧的区域斜向下构筑加固管桩; S3、在位于S1中所述重叠位置的地下管廊的下方开挖该部分的基坑,并在所述重叠位置两侧的围护结构之间同步设置挡土结构。 2.根据权利要求1所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:所述挡土结构为挡土板; 所述挡土板设在所述重叠位置两侧的围护结构之间。 3.根据权利要求2所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:所述挡土板为钢筋混凝土挡土板。 4.根据权利要求2所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:所述挡土板与位于所述重叠位置两侧的围护结构后植筋连接。 5.根据权利要求1所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:所述加固管桩为注浆管或旋喷桩。 6.根据权利要求1所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:位于所述重叠位置两侧的围护结构与位于所述重叠位置的地下管廊间设有间隙。 7.根据权利要求6所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:所述间隙的宽度为80-120mm。 8.根据权利要求1所述一种在地下管廊下方施工基坑的方法,其特征在于:构筑所述加固管桩斜向下的方向与垂直方向的夹角为0-20°。
所属类别: 发明专利
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