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原文传递 气相层析设备的分离系统
专利名称: 气相层析设备的分离系统
摘要: 一种气相层析设备的分离系统,包含一分离流路,是由半导体制程制出多个流路单元堆叠组成,该每个流路单元是由一底基材上制出一成形层再堆叠一上基材所构成,且于该成形层生成出一连续延伸环路连通的导气通路。导气通路中设置填充材,使得进入分离流路内的受测样品被填充材的吸附力所牵引,受测样品所含不同的化合物其吸附力也不同,透过受测样品所含不同的化合物受不同的吸附力所牵引,让受测样品所含不同的化合物于分离流路内产生不同的流速,进而使不测样品所含不同的化合物于分离流路内逐渐分离。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 中国台湾;71
申请人: 研能科技股份有限公司
发明人: 莫皓然;薛达伟;莫立邦;陈世昌;黄启峰;韩永隆
专利状态: 有效
申请日期: 2018-05-04T00:00:00+0800
发布日期: 2019-11-12T00:00:00+0800
申请号: CN201810418914.8
公开号: CN110441101A
代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
代理人: 喻学兵
分类号: G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址: 中国台湾新竹市科学园区研发二路28号1楼
主权项: 1.一种气相层析设备的分离系统,其特征在于,包含: 一分离流路,由半导体制程制出的多个流路单元堆叠组成,每个该流路单元是由一底基材上制出一成形层再堆叠一上基材所构成,且于该成形层生成出一连续延伸环路连通的导气通路,该上基材并生成出一导气入口,连通于该导气通路一端,以及该底基材生成一导气出口,连通于该导气通路另一端,位于上层的该流路单元的该导气出口连通位于底层的该流路单元的该导气入口,促使堆叠的该每个流路单元的该导气通路得以相互连通;以及 一填充材,设置于该分离流路的该导气通路中; 借此,一受测样品由该导气入口导入流通于该分离流路的该导气通路中,该受测样品受该导气通路上该填充材以进行各成份的化合物的吸附分离,该受测样品所含各成份化合物以不同速度导出于该导气出口进行测定分析与纪录。 2.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充材为具有吸附性的多孔聚合物,填充设置于该导气通路中。 3.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充材为具有吸附性的分子筛材料,填充设置于该导气通路中。 4.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充材为一填充载体上覆盖均匀具有吸附功能的固定液膜,填充设置于该导气通路中。 5.如权利要求4所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充载体为硅的氧化物,表面具有羟基得将该固定液膜植上。 6.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充材为固定液膜直接涂布在该分离流路的导气通路之内壁表面附着。 7.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该填充材为固定液膜直接溅镀在该分离流路的导气通路之内壁表面附着。 8.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该分离流路的该导气入口连接一泵,该泵透过一管路连通一气路系统及一样品注入系统,该气路系统由一载体气体供应源及一稳压恒流装置透过该管路连接而受该泵导出流速稳定的一载体气体进入该分离流路的该导气通路中,该样品注入系统由一注入装置透过该管路连接,而使该受测样品由该注入装置注入后,受该泵导入该分离流路的该导气通路中。 9.如权利要求8所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该泵为一微机电系统泵。 10.如权利要求8所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该泵为一气体泵,其包含: 一喷气孔片,包含多个支架、一悬浮片及一中空孔洞,该悬浮片可弯曲振动,该多个支架邻接于该悬浮片周缘,而该中空孔洞形成于该悬浮片的中心位置,透过该多个支架设置定位该管路中,并提供弹性支撑该悬浮片,该喷气孔片与该管路之间形成一气流腔室,且该多个支架及该悬浮片之间形成至少一空隙; 一腔体框架,承载叠置于该悬浮片上; 一致动体,承载叠置于该腔体框架上,以接受电压而产生往复式地弯曲振动; 一绝缘框架,承载叠置于该致动体上;以及 一导电框架,承载叠设置于该绝缘框架上;其中,该致动体、该腔体框架及该悬浮片之间形成一共振腔室,透过驱动该致动体以带动该喷气孔片产生共振,使该喷气孔片的该悬浮片产生往复式地振动位移,以造成该载体气体及该受测样品通过该至少一空隙进入该气流腔室,再由该气体流道排出,实现该载体气体及该受测样品的传输流动。 11.如权利要求10所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该致动体包含: 一压电载板,承载叠置于该腔体框架上; 一调整共振板,承载叠置于该压电载板上;以及 一压电板,承载叠置于该调整共振板上,以接受电压而驱动该压电载板及该调整共振板产生往复式地弯曲振动。 12.如权利要求11所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该调整共振板的厚度大于该压电载板的厚度。 13.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该分离系统设置于一温控系统中,以供该分离系统维持一操作温度,并控制在一定温度下进行该受测样品的分离操作。 14.如权利要求1所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该分离系统连接一检测系统及一纪录系统,该检测系统包含一检测腔室及一检测器,该检测腔室分别连接该分离系统的该导气出口,该受测样品所含各成份化合物以不同速度导出于该导气出口后供该检测器作检测,该纪录系统连接该检测系统的该检测器,供以收集该检测器的信号进行该受测样品的气相层析处理的测定分析与纪录。 15.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为热传导检测器。 16.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为火焰离子化检测器。 17.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为电子捕获检测器。 18.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为火焰光量检测器。 19.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为热离化检测器。 20.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为红外线检测器。 21.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为质谱仪。 22.如权利要求14所述的气相层析设备的分离系统,其特征在于,该检测器为核磁共振波谱仪。
所属类别: 发明专利
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