专利名称: | 一种纯铜试样的制备方法 |
摘要: | 本发明属于金属件试样的制备领域,特别涉及一种纯铜试样的制备方法,其制备方法包括如下步骤,机械磨抛:将纯铜试样磨光处理,直至打磨表面无肉眼可见划痕为止;机械抛光:电解抛光:将试样为阳极、同材质纯铜为阴极,用导线连接直流稳压电源,然后将两极同时浸入到电解抛光液中进行电解抛光;抛光极距10‑30mm,抛光时间5‑10min;清洗;二次机械抛光;二次电解抛光。本发明在去除表面残余应力层目的的同时,有效去除表面浮突、麻点、凹坑等缺陷,获得光洁平整的表面。通过本发明制备的纯铜试样,减少了后续的EBSD分析测试时的缺陷处无法产生衍射花样情况的发生,大大提高了菊池花样的标定率,花样标定率≥95%。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 上海;31 |
申请人: | 上海宝冶工程技术有限公司 |
发明人: | 毛泽宁;钱锟;王嘉畅;韩波;沈明强;赵卫华;刘晓 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2019-10-14T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-11-29T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201910972970.0 |
公开号: | CN110514503A |
代理机构: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 |
代理人: | 曹莉 |
分类号: | G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
申请人地址: | 200941 上海市宝山区四元路168号 |
所属类别: | 发明专利 |