详情

原文传递一种纯铜试样的制备方法

专利名称：	一种纯铜试样的制备方法
摘要：	本发明属于金属件试样的制备领域，特别涉及一种纯铜试样的制备方法，其制备方法包括如下步骤，机械磨抛：将纯铜试样磨光处理，直至打磨表面无肉眼可见划痕为止；机械抛光：电解抛光：将试样为阳极、同材质纯铜为阴极，用导线连接直流稳压电源，然后将两极同时浸入到电解抛光液中进行电解抛光；抛光极距10‑30mm，抛光时间5‑10min；清洗；二次机械抛光；二次电解抛光。本发明在去除表面残余应力层目的的同时，有效去除表面浮突、麻点、凹坑等缺陷，获得光洁平整的表面。通过本发明制备的纯铜试样，减少了后续的EBSD分析测试时的缺陷处无法产生衍射花样情况的发生，大大提高了菊池花样的标定率，花样标定率≥95％。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	上海宝冶工程技术有限公司
发明人：	毛泽宁;钱锟;王嘉畅;韩波;沈明强;赵卫华;刘晓
专利状态：	有效
申请日期：	2019-10-14T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-29T00:00:00+0800
申请号：	CN201910972970.0
公开号：	CN110514503A
代理机构：	上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
代理人：	曹莉
分类号：	G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址：	200941 上海市宝山区四元路168号
所属类别：	发明专利