原文传递
一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的测试方法
| 专利名称： | 一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的测试方法 |
| 摘要： | 本发明属于材料测试技术领域，具体涉及了一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的X射线辐照测试方法。本发明利用X射线的电荷积累效应，模拟高反膜因荷电积累的失效过程：采用的X射线源对高反膜表面进行荷电处理，在累积的处理过程中；同时利用光电子能谱仪原位监测高反膜表面化学态的变化，间断的进行XPS分析，检测高反膜表面的各元素的化学态变化。通过对随机选取的失效组样品和非失效组样品进行统计分析，并引入α和β参数描述O1s峰的对称性，只用到了两个拟合参数，就可以评估辐照荷电老化时的损耗变化，便于工程实际应用，是一种方便、快捷的判别方法。特别适合用于膜层材料工艺实验的快速优化、工艺监控等环节。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 四川;51 |
| 申请人： | 电子科技大学 |
| 发明人： | 曾慧中;杨潇;幸代鹏;张文旭;张万里 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-09-04T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-12-20T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910831127.0 |
| 公开号： | CN110596174A |
| 代理机构： | 电子科技大学专利中心 |
| 代理人： | 闫树平 |
| 分类号： | G01N23/2273(2018.01);G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
