专利名称: |
用于基于图像的测量及基于散射术的叠对测量的信号响应度量 |
摘要: |
本申请涉及一种用于基于图像的测量及基于散射术的叠对测量的信号响应度量。采用各自具有沿相反方向的经编程偏移的两个叠对目标来执行叠对测量。基于零级散射术信号测量叠对误差,且以两个不同方位角从每一目标收集散射术数据。另外,本发明呈现用于基于所测量的基于图像的训练数据而创建基于图像的测量模型的方法及系统。接着使用经训练的基于图像的测量模型来直接依据从其它晶片收集的所测量图像数据计算一或多个所关注参数的值。本文中描述的用于基于图像的测量的方法及系统适用于度量应用及检验应用两者。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
美国;US |
申请人: |
科磊股份有限公司 |
发明人: |
S·潘戴夫;D·桑科;陆伟;S·斯里法思塔发 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2015-10-13T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-12-20T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910872426.9 |
公开号: |
CN110596146A |
代理机构: |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 |
代理人: |
刘丽楠 |
分类号: |
G01N21/956(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
美国加利福尼亚州 |
所属类别: |
发明专利 |