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原文传递 基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置
专利名称: 基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置
摘要: 本发明提供的是一种基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置。其特征是:它由同轴双波导光纤1、同轴双波导光纤连接器2、相机3、计算机4、光源5及光纤6组成。足够大的波矢可以激发多层介质膜基底1表面产生表面布洛赫波,对环境变化非常灵敏,利用同轴双波导光纤1的环形芯1‑1使激光激发表面布洛赫波与样品相互作用消除表面等离激元作用于样品后带来的拖尾,同时使用同轴双波导光纤1的中间芯进行散射光收集,经由计算机4处理获得高信噪比和高分辨率的图像。该发明使用特种光纤,可有效降低成本、优化结构,可实现便携式高信噪比和高分辨率微纳显微成像。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广西;45
申请人: 桂林电子科技大学
发明人: 苑立波;纪竞凯
专利状态: 有效
申请日期: 2019-09-07T00:00:00+0800
发布日期: 2019-12-20T00:00:00+0800
申请号: CN201910845053.6
公开号: CN110596100A
分类号: G01N21/84(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址: 541004 广西壮族自治区桂林市桂林金鸡路1号
所属类别: 发明专利
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